光子学报, 2010, 39 (9): 1543, 网络出版: 2010-11-04
光溅射镀膜均匀性的优化模拟
Optimal Simulation for the Thickness Uniformity of the Film Deposited by Pulse Laser Sputtering
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | TN249 |
| 栏目: | |
| 项目基金: | 国家高技术研究发展计划804主题军口资助 |
| 收稿日期: | 2009-10-28 |
| 修改稿日期: | 2010-04-21 |
| 网络出版日期: | 2010-11-04 |
| 通讯作者: | 王晟 (pplunum1@163.com) |
| 备注: | -- |
王晟, 叶景峰, 刘晶儒, 白婷, 叶锡生, 王立君. 光溅射镀膜均匀性的优化模拟[J]. 光子学报, 2010, 39(9): 1543. WANG Sheng, YE Jing-feng, LIU Jing-ru, BAI Ting, YE Xi-sheng, WANG Li-jun. Optimal Simulation for the Thickness Uniformity of the Film Deposited by Pulse Laser Sputtering[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2010, 39(9): 1543.
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