光子学报, 2010, 39 (9): 1543, 网络出版: 2010-11-04  

光溅射镀膜均匀性的优化模拟

Optimal Simulation for the Thickness Uniformity of the Film Deposited by Pulse Laser Sputtering
作者单位
西北核技术研究所,西安 710024
Metrics
摘要访问:6629次
PDF 下载:335次
全文浏览:0次
总被查询:0次

王晟, 叶景峰, 刘晶儒, 白婷, 叶锡生, 王立君. 光溅射镀膜均匀性的优化模拟[J]. 光子学报, 2010, 39(9): 1543. WANG Sheng, YE Jing-feng, LIU Jing-ru, BAI Ting, YE Xi-sheng, WANG Li-jun. Optimal Simulation for the Thickness Uniformity of the Film Deposited by Pulse Laser Sputtering[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2010, 39(9): 1543.

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!