3D显示系统的互补多频宽角度色谱滤光膜 下载: 789次
1 引言
作为虚拟现实技术重要组成部分的3D(Three Dimensional)立体显示已经成为现代显示技术发展的必然方向,第五代移动通信技术时代的到来也为这种对复杂信息进行快速而准确传输的显示技术提供了极大便利。当高品质影像内容得到及时传输时,用户更希望借助大屏观看,以满足更高的视听需求[1]。因此,对于遭遇巨大挑战的传统电视行业而言,将电视显示终端升级成3D信号接收终端将是电视媒体摆脱尴尬处境的契机。
国外对3D显示技术的研究相较成熟。Talcott等[2]利用3D平视技术进行了临床手术。Kim等[3]利用中心对称多边带滤波技术,制备了一种可以全角度观看的全息3D显示器。Continental公司利用衍射光栅和纳米结构,正在研发互联驾驶舱的车载3D技术显示器。Semrock公司和Iridian公司实现了亮度损失低、串扰小的波分式三带通滤光膜。
国内对3D显示技术的研究起步较晚,近几年的研究重点集中在改善偏光式3D成像角度、增强裸眼3D技术分辨率和研制集成成像中的全息透镜阵列等方面[4-6]。对于波分式3D技术,郝琦[7]研制了一种波分复用式滤光膜。这种滤光膜的使用角度为0°~10°,当入射光角度大于10°时,通带透过率严重下降,导致成像质量大幅降低;并且当入射光0°入射时,出射光不满足近似白光的色平衡指标,从而制约了这种滤光膜在电视显示端的应用。而国内其他波分式3D显示的研究多集中在光学特性方面,对膜系设计和实际制备过程鲜有报道。
本文修整了基础膜系的结构,研究了材料的光学特性,优化了制备过程中的工艺参数,设计并研制了可大角度使用的互补多频宽角度色谱滤光膜(Complementary Multi-band Wide-angle Chromatography Filter,CMWCF)。
2 设计指标
波分式3D显示技术的原理如
表 1. CMWCF-A的设计指标
Table 1. Design specifications of CMWCF-A
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表 2. CMWCF-B的设计指标
Table 2. Design specifications of CMWCF-B
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CMWCF-A组滤光片以R1、G1、B1作为透射光谱区,B组以互补区R2、G2、B2作为透射区。LED光源发出的光经过A、B两组有序排列的镜组,得到的两组差异化图像在被左、右眼接收时产生视觉差异,从而形成立体感。
由
1) 当光线以大角度入射时,保证偏移后的出射光仍在原色区内。以红色区R为例,即光谱偏移后CMWCF-A的R1区不能偏移至CMWCF-B的G2区内;CMWCF-B的R2区也不能偏移至CMWCF-A的R1区内。
2) 为了满足视觉需求,需要尽可能满足出射光的色平衡指标,即Commission International Eclairage(CIE)颜色指标中的颜色通道a、b值应尽可能小。因此需要根据R、G、B三色光在合成白色光时的比例关系[8],对光谱偏移前后三带通的位置和宽度进行优化,保证颜色均衡。
3) 在确保以上两点的情况下,尽可能展宽通带宽度以传输更多画面信号。由于入射光的角度越大通带偏移量越大,为了保证通带不偏移出原有区间,就需要缩小通带宽度,但过窄的通带会限制信号传输,因此最大入射角度不宜过大。
利用Macleod设计软件对两组滤光片进行模拟,最终确定光线的最大入射角为30°,此时能够保证光谱偏移前后的通带位置均在原色区内,且入射角为 0°~30°时两组滤光片的出射光颜色合成接近白色。
根据以上分析并结合实际制备技术,最终确定了CMWCF的设计指标,具体参数如
3 理论设计
3.1 等效间隔层
根据给定的三带通设计要求,基础膜系考虑采用全介质多半波法布里-珀罗滤光片。全介质多半波法布里-珀罗滤光片有两种基本结构,等效间隔层为高折射率材料结构Sub|(HL)x2mH (LH)x|Air和等效间隔层为低折射率材料结构Sub| (HL)x H 2mL H (LH)x|Air,其中H为高折射率材料,L为低折射率材料,Sub为基板,Air为空气层,m、x为任意正实数。
在使用中频磁控溅射设备制备低折射率材料SiO2时,压应力较大,是相同厚度下Nb2O5等常见高折射率材料的两倍[9],因此为了降低膜层应力的累计,初始结构采用以2mH为等效间隔层的法布里-珀罗滤光片,此时通带的半峰全宽为
式中:Δλh为半峰全宽,nS为基板折射率,nH为高折射率材料的折射率,nL为低折射率材料的折射率。斜向入射时中心波长位置的偏移量为
式中:Δg为中心波长位置的偏移量;Δλ为中心波长的变化量;λ为新的中心波长; n*为等效间隔层材料的折射率。
当斜向入射时,S光和P光的等效折射率不同。对于第一级次,即m=1时,S光的等效折射率
P光的等效折射率
式中:KH=
将(3)、(4)式代入(2)式中,得到
式中:λS为光线斜向入射条件下S光偏移后的中心波长;λP为光线斜向入射条件下P光偏移后的中心波长。
对于可见光波段常用的高低折射率材料Nb2O5和SiO2,当中心波长为550 nm、最大入射角为30°时,由(5)式得到S光、P光的光谱偏移位置之差λS-λP≈0.38 nm,从该结果可以看出,以高折射率材料作为等效间隔层时,在光线大角度入射条件下,S光和P光的光谱偏移位置有一定差异,且S光比P光的偏移量更大,这样会导致出射光能量分散、通带透过率降低。
若考虑间隔层材料改用低折射率材料2mL,同样取第一级次m=1,此时S光的等效折射率为
P光的等效折射率为
式中:KL=
将(6)、(7)式代入(5)式,得到
从(8)式看出,以低折射率材料作为间隔层时,在光线大角度入射条件下,P光比S光的偏移量大。结合(5)式和(8)式推断,当间隔层采用等效中间折射率材料时,如以2L2H2L或2H2L2H代替6H或6L,可以使S、P偏振光的偏移量几乎相同。
以6H为等效间隔层,中心波长为550 nm的法布里-珀罗滤光片在30°入射角下出射光的光谱偏移情况如
图 3. 在30°入射角下,等效间隔层为6H时法布里-珀罗滤光片的透射光谱
Fig. 3. Transmittance spectra of F-P filter with equivalent spacer layer of 6H at incident angle of 30°
因此,为了简化设计,方便后续膜系优化,将上述间隔层材料6H用等效中间折射率材料2H2L2H代替,在大角度入射下,出射光的S光、P光的光谱偏移位置相近,有效避免了能量分散现象的发生[10]。
替换等效间隔层后,在大角度入射下,出射光的S光、P光和平均光的光谱偏移情况如
图 4. 在30°入射角下,等效间隔层为2H2L2H时法布里-珀罗滤光片的透射光谱
Fig. 4. Transmittance spectra of F-P filter with equivalent spacer layer of 2H2L2H at incident angle of 30°
半峰全宽公式为
式中:T≈
由(9)式可知,当等效间隔层为2H2L2H时,通带的半峰全宽略小于以6H为等效层的半峰全宽。
3.2 分形结构
本次的光谱设计要求较为复杂,以普通结构的法布里-珀罗滤光片为初始膜系,即使进行大量的优化处理,仍然难以得到理想波形。因此本文采用一种分形结构的方式,对法布里-珀罗滤光片的周期结构进行设置,得到通带位置可以自由变化的三带通滤光片[11-13]。
单腔室的法布里-珀罗滤光片是一个最简单的分形结构,结构为(HL)xαH (LH) x,该结构关于中心等效间隔层αH对称。分形结构是一种局部相对于整体自相似的特殊结构,根据这个特点,可以得到双通道滤光片的基本膜系为(HL)x αH (LH)x βL (HL)x αH (LH)x,其结构除了关于等效间隔层βL对称之外,对称的两个子膜系也关于自身间隔层αH对称。进而得到三带通滤光片的基本膜系为(HL)x αH (LH)x βL (HL)x αH (LH)x γL (HL)x αH (LH)x βL (HL)x αH (LH)x,上述α、β、γ均为任意正实数。
例如,将三带通滤光片的分形对称结构设置为HL αH LH βL HL αH LH γL HL αH LH βL HL αH LH,以550 nm为中心波长,固定α=2,β=1.2,对γ进行相对独立的调整,结果如
图 5. 当α=2 ,β=1.2时不同γ下三带通的位置
Fig. 5. Treble-bandpass positions at different γ when α=2 and β=1.2
同样,固定α=2,γ=0.8,对β进行相对独立的调整,结果如
图 6. 当α=2 ,γ=0.8 时不同β下三带通的位置
Fig. 6. Treble-bandpass positions at different β when α=2 and γ=0.8
从
最终确定CMWCF-A片的初始结构参数为:x=4,α=0.91,β=0.22,γ=1.62,等效间隔层为2H2L2H,中心波长为502.5 nm。CMWCF-B片的初始结构参数为:x=4,α=2,β=0.6,γ=0.39,等效间隔层为2H2L2H,中心波长为568.3 nm。优化膜系后,在单面镀膜且不考虑后表面未镀膜所产生的反射现象条件下,得到的设计曲线如
图 7. 单面镀膜条件下CMWCF-A的理论光谱曲线
Fig. 7. Theoretical spectral curves of CMWCF-A with single-sided coating
图 8. 单面镀膜条件下CMWCF-B的理论光谱曲线
Fig. 8. Theoretical spectral curves of CMWCF-B with single-sided coating
如
在实际制备时,不能保证每层的实际厚度与设计一致,因此通过Macleod软件对膜系进行0.5%随机误差模拟,得到0°入射角下CMWCF-A、B两个膜堆的误差模拟光谱,模拟结果如
由
最终的A片膜系为0.6H 0.2L 1.1H 1.3L 1.3H 1.3L 2.1H 0.4L 2.8H 0.9L … 2.3H 1.6L 0.4H 0.1L 0.7H,共69层。B片膜系为1.2L 1.7H 0.8L 0.7H 0.1L 1.6H 0.7L 0.5H 0.4L 1.3H … 2.7H 0.4L 0.5H 0.7L 1.0H,共68层。
图 9. CMWCF-A的随机误差模拟光谱
Fig. 9. Theoretical spectral curves of CMWCF-A obtained by random error simulation
图 10. CMWCF-B的随机误差模拟光谱
Fig. 10. Theoretical spectral curves of CMWCF-B obtained by random error simulation
4 制备工艺及参数
根据设计要求,选择K9玻璃作为本次实验的基板。K9玻璃的折射率约为1.5163,在可见光波段有较好的透过率,在单面镀膜且忽略表面散射对其影响的条件下,其峰值透过率为95.8%。由于本次设计的膜系结构复杂、膜层数多,因此材料的消光系数和由膜层间体散射累计造成的光能损失会对膜层的透过率有较大的影响[14-15]。
对于可见光波段常用的SiO2,其成膜时以层状结构生长,面型结构较好;Si—O键属于较稳定的化合键,化合物性质稳定[16]。Nb2O5结构稳定,材料聚集密度高,且应力较小,溅射过程中对反应气体流量的敏感程度较低,可以通过改变反应气体的流量来调整材料的光学参数。
根据以上分析,最终选择Nb2O5和SiO2为高低折射率材料以制备CMWCF。
表 4. CMWCF的颜色测试结果
Table 4. Test color results of CMWCF
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表 3. 制备工艺参数
Table 3. Process parameters for fabrication
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实验设备使用光驰OWLS1800型平面溅射机,配备两台电感耦合等离子体(Inductive Coupled Plasma,ICP)辅助沉积设备、一对铌靶和两对硅靶(Target,TG)。实验中的设备主要参数如
实验前用超声波清洗基底,擦拭后装入真空室,抽真空至电离真空规示数到达1.0×10-4 Pa时,用ICP辅助沉积设备清洁基板并成膜。
首先对A膜系进行镀制,镀制完成后,利用Cary7000分光光度计,在狭缝宽度为1 nm条件下测量其光谱,结果如
由
结合温度在镀膜过程中的变化,分析导致光谱偏移的原因:镀膜前期基板表面温度较低,膜料分子从基板获得的能量较少,这对膜料分子在基板表面的热运动和生长迁移会起到一定的抑制作用,致使膜层内部留有较多空穴,最终导致膜层聚集密度和折射率整体偏低[17-18]。因此在镀膜前,利用小功率ICP辅助沉积设备对基板进行预加热处理。
图 11. 初步制备的CMWCF-A的测试光谱曲线及局部放大
Fig. 11. Test spectral curves of CMWCF-A at first preparation as well as local magnification
经分析,B1处的矩形度较差,这是由于膜层总厚度较大,高折射率材料Nb2O5在短波处的消光系数较大,出现能量损失。对于中频磁控溅射技术,反应气体流量和靶材功率等对材料消光系数的影响较大[19-20]。本次实验通过改变反应气体的流量来改善Nb2O5材料在短波处的消光系数。
在保证ICP辅助沉积设备功率和TG功率不变的情况下,通过调整反应气体的流量,利用Woollam公司M-2000椭偏仪测得几组Nb2O5材料的光学常数,结果如
图 12. 不同O2流量下Nb2O5材料的光学常数。(a)折射率;(b)消光系数
Fig. 12. Optical constants of Nb2O5 under different oxygen gas flows. (a) Refractive index; (b) extinction coefficient
由
但是过快的O2流量会导致靶材从金属模式转变为中毒模式,生成的Nb2O5覆盖在靶材表面,阻碍反应继续发生,进而溅射速率降低。根据分子自由程公式
结合以上分析,最终选择O2流量为60 mL·min-1的工艺制备多层膜,该工艺下其折射率及消光系数可以满足设计需求,其单层膜光谱曲线及光学常数分布情况分别如
图 13. 60 mL·min-1 O2流量下单层Nb2O5的光谱
Fig. 13. Spectra of single-layer Nb2O5 under oxygen gas flow of 60 mL·min-1
图 14. 60 mL·min-1 O2流量下单层Nb2O5的光学常数
Fig. 14. Optical constants of single-layer Nb2O5 under oxygen gas flow of 60 mL·min-1
利用ICP辅助沉积设备使基板表面升高到120 ℃时再次镀膜,镀制结束后在对膜层进行结合力测试,发现3M胶带拉扯三次后有轻微裂膜现象。经分析,可能是由于在ICP辅助沉积设备加热基板时,基板表面被破坏,粗糙度变大,膜层与基底的结合力变差。因此,在膜层前增镀100 nm 的SiO2层,以改善基底表面的面型。对膜系进行简单优化并镀制,最终得到A片的测试光谱如
镀制A片完成后,B片镀制过程与其类似,最终B片的测试光谱如
由
在LED光源0°和30°入射的条件下,利用CM3600A显微测色仪测试样片的颜色参数,其透射光a、b值的测试结果如
从
5 结论
结合大角度入射时CMWCF出射光的通带位置和通带宽度的要求,以及R、G、B三色光合成白光时的比例关系,确定了CMWCF-A、B片的技术参数。基于光学薄膜理论,通过替换等效间隔层材料和设置分形结构,设计了合适的初始膜系结构,并利用设计软件Macleod对膜系进行了优化,得到了适宜制备的滤光膜设计。通过对实验结果的反演分析,增加了单层膜制备时的反应气体流量,优化了多层膜起始阶段的制备工艺,解决了薄膜短波透过率低、膜层与基底结合力不好等问题。最终研制出了通带平均透过率≥92%、截至带平均透过率≤1%且膜层附着力良好的互补三带通滤光膜,满足电视终端显示的使用需求。通过减小膜层厚度并降低膜层累计应力,将膜层镀制在树脂基板表面以扩大使用范围,这是未来研究工作的重点。
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