激光技术, 2018, 42 (4): 567, 网络出版: 2018-08-29   

激光等离子体对硅表面微纳粒子除去机理研究

Study on removal mechanism of micro-/nano-particles on silicon surface by laser plasma
作者单位
1 信阳职业技术学院 汽车与机电工程学院, 信阳 464000
2 西南技术物理研究所, 成都 610041
基本信息
DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2018.04.025
中图分类号: O539
栏目: 激光与光电子技术应用
项目基金: --
收稿日期: 2017-08-17
修改稿日期: 2017-10-23
网络出版日期: 2018-08-29
通讯作者: 王平秋 (pq2010wang@163.com)
备注: --

罗锦锋, 宋世军, 王平秋, 刘全喜. 激光等离子体对硅表面微纳粒子除去机理研究[J]. 激光技术, 2018, 42(4): 567. LUO Jinfeng, SONG Shijun, WANG Pingqiu, LIU Quanxi. Study on removal mechanism of micro-/nano-particles on silicon surface by laser plasma[J]. Laser Technology, 2018, 42(4): 567.

本文已被 2 篇论文引用
被引统计数据来源于中国光学期刊网
引用该论文: TXT   |   EndNote

相关论文

加载中...

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!