光学学报, 2011, 31 (8): 0805001, 网络出版: 2011-07-29
基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法
Moiré Fringe-Based Focusing-Test Scheme for Optical Projection Lithography
基本信息
DOI: | 10.3788/aos201131.0805001 |
中图分类号: | O436 |
栏目: | 衍射与光栅 |
项目基金: | -- |
收稿日期: | 2011-03-09 |
修改稿日期: | 2011-03-30 |
网络出版日期: | 2011-07-29 |
通讯作者: | 严伟 (yanwei@ioe.ac.cn) |
备注: | -- |
严伟, 李艳丽, 陈铭勇, 王建. 基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法[J]. 光学学报, 2011, 31(8): 0805001. Yan Wei, Li Yanli, Chen Mingyong, Wang Jian. Moiré Fringe-Based Focusing-Test Scheme for Optical Projection Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2011, 31(8): 0805001.