基态HF分子和介质消耗对重复频率脉冲HF激光输出的影响 下载: 899次
1 引言
放电引发的非链式脉冲氟化氢(HF)激光器波长为2.5~3.0 μm,可以实现高功率和高重复频率运行,是一种重要的中红外激光光源[1-4]。激光器的重复频率运行一直是重要的研究方向之一。Brunet等[5]采用紫外预电离实现激光器稳定辉光放电,并利用气体循环和介质吸附技术实现激光器65 Hz重复频率运行;Harris等[6]采用闭合循环方式实现了HF/DF激光器kHz级高重复频率运行;Apollonov等[7]利用自引发放电技术和粗糙表面阴极实现了大体积均匀放电,获得脉冲能量为407 J的激光输出;Butyzykin等[8]在HF/DF激光器中实现了重复频率为1.2 kHz、平均功率为25 W的激光输出。中国科学院电子学研究所于2003年获得了单脉冲能量为0.4 J的HF激光输出,2007年实现了单脉冲能量为1.6 J、重复频率为1~3 Hz的输出[9-11]。中国科学院长春光学精密机械与物理研究所于2011年获得了单脉冲能量为4.95 J、峰值功率为33.27 MW的DF激光输出,并于2015年将输出功率和运行频率分别提高至150 W和50 Hz[12]。西北核技术研究所于2008年获得了单脉冲能量为0.6 J的HF激光输出,优化后单脉冲能量最大可达到1 J,激光器可以实现重复频率为1~50 Hz的运行[13-15]。目前,西北核技术研究所已经研制出最大单脉冲能量为2 J,输出功率为150 W,重复频率为100 Hz的脉冲HF激光器。本文从实验角度分析基态HF分子和气体介质消耗对重复频率HF激光器脉冲能量的影响。
2 基本原理与实验简介
放电引发的非链式脉冲HF激光器属于化学激光器,采用SF6和C2H6作为工作气体[1],化学反应过程和激光动力学过程可以简述为
式中:e为放电通道内的高能电子;
实验所用的HF激光器利用紫外预电离方式产生均匀体放电引发工作气体SF6和C2H6发生化学反应,生成激发态HF分子,抽运反应为不可逆反应,该化学反应需要不断消耗工作气体介质。激光器采用封闭循环设计,可使器件结构紧凑、体积小,然而在重复频率工作模式下,有限的激光器体积内的介质消耗和放电产物的累积会对激光器的长时间稳定出光产生一定的影响。激光器谐振腔采用外腔式平凹腔结构,腔长约0.9 m,利用能量计测量激光器的脉冲输出能量。采用简单的直接吸收法测量激光器重复频率运行过程中放电区和气体管道内HF分子浓度的变化情况,实验系统示意图见
图 1. HF分子浓度测量实验系统示意图
Fig. 1. Experimental system for measuring concentration of HF molecular
3 实验结果分析
3.1 无吸附条件下实验结果分析
在激光器内没有加入吸附剂条件下开展实验,研究HF分子相对浓度变化和工作介质的消耗对HF激光脉冲能量的影响。
图 2. 不同重复频率下激光器内HF分子相对浓度的变化。(a) 50 Hz;(b) 100 Hz
Fig. 2. Change of relative concentrations of HF molecular at different laser repetition rates. (a) 50 Hz; (b) 100 Hz
图 3. 不同重复频率下归一化激光脉冲能量的变化。(a) 50 Hz;(b) 100 Hz
Fig. 3. Change of normalized laser pulse energy at different repetition rates. (a) 50 Hz; (b) 100 Hz
从化学反应基本原理可以看出,激光脉冲能量的大小与放电区内化学反应生成的HF分子浓度有直接关系。因此,通过实验对激光器放电瞬间放电区内的HF分子峰值相对浓度进行了测量。
图 4. 放电区内HF分子峰值相对浓度的变化
Fig. 4. Change of relative concentration of HF molecular at peak value in discharge region
通过在激光器内充入不同标准浓度的HF气体,对HF分子浓度进行标定,可以得到激光器工作过程中实际HF分子浓度。
3.2 有吸附条件下的实验结果分析
无吸附剂条件下的实验结果表明,封闭的气室内HF分子浓度的升高会导致激光脉冲能量降低,为了维持激光输出能量,需要降低激光器内HF分子浓度。通过在激光器气室内加入分子筛作为吸附剂,可以及时清除激光器内的HF分子,降低HF分子浓度。激光器气室内加入分子筛后,激光器重复频率为100 Hz的运行条件下,测量得到的激光器内HF分子相对浓度和激光脉冲能量随着时间的变化情况如
图 5. 归一化激光脉冲能量随HF分子浓度的变化
Fig. 5. Normalized laser pulse energy versus concentration of HF molecular
图 6. 激光器气室内加入分子筛后,激光器重复频率为100 Hz的运行条件下的实验结果。(a)HF分子相对浓度;(b)归一化的激光脉冲能量变化
Fig. 6. Experimental results at repetition rate of 100 Hz with molecular sieves added in laser chamber. (a) Relative concentration of HF molecular; (b) change of normalized laser pulse energy
通过实验得到吸附前后激光器内HF分子浓度变化情况以及激光脉冲能量变化情况。加入吸附剂前,激光脉冲能量随着HF分子浓度升高而下降,且激光脉冲能量下降倍率与HF浓度的上升倍率一致;加入吸附剂后HF浓度得到有效控制,激光脉冲能量维持得较好。通过对激光器工作介质消耗的分析,发现激光器单次放电实际消耗的工作介质总量较少。结合对变化规律的分析,可以确定,对于重复频率运行的放电引发非链式脉冲HF激光器,封闭激光器内HF分子浓度的累积对激光脉冲能量影响较大,而工作气体介质的消耗对激光脉冲能量影响较小。后续为延长激光器出光时间,还需要考虑加入补排气系统。
4 结论
放电引发的非链式脉冲HF激光器是一种典型的介质消耗型化学激光器。采用封闭循环设计可以使激光器的结构紧凑、体积小,并能获得较高的功率输出,然而有限的激光器体积内介质消耗和放电产物HF分子的累积均会对激光器的长时间稳定出光产生一定的影响。分析HF分子浓度累积和工作介质消耗对重复频率激光脉冲能量的影响规律,得到激发态HF分子的发光效率约为0.8,放电时激光器放电区内SF6气体的分解率约为1%,约消耗气室内SF6气体总量的1/(2×105)。实验结果表明,封闭激光器内的HF浓度对激光脉冲能量影响较大,工作气体介质消耗对激光脉冲能量影响较小。激光器内加入分子筛,可以有效降低并控制重复频率运行激光器内HF分子浓度水平,短时间运行激光脉冲能量可以得到有效维持,长时间运行还需要考虑加入充排气系统,消除介质消耗对激光脉冲能量降低的影响。在实验用的激光器上,通过将HF浓度控制在1.8×1015 cm-3,激光脉冲能量下降约10%。
[1] 格罗斯, 博特. 化学激光手册[M]. 尹厚明, 谢行滨, 罗静远, 译. 北京: 科学出版社, 1987.
Gross R WF, Bott JF. Handbook of chemical laser[M]. Yin H M, Xie X B, Luo J Y, Transl. Beijing: Science Press, 1987.
[3] Vasil'ev B I, Mannoun O. IR differential-absorption lidars for ecological monitoring of the environment[J]. Quantum Electronics, 2006, 36(9): 801-820.
[4] 郭建增, 王杰, 赵海涛, 等. 连续波氟化氢激光输出光谱特性研究[J]. 激光与光电子学进展, 2018, 55(2): 021404.
[5] Brunet H, Mabru M, Voignier F. High energy high average power pulsed HF/DF chemical laser[J]. Proceedings of SPIE, 1995, 2502: 388-392.
[6] Harris M R, Morris A V, Gorton E K. Closed-cycle 1-kHz-pulse-repetition-frequency HF(DF) laser[J]. Proceedings of SPIE, 1998, 3268: 247-252.
[7] Apollonov V V, Kazantsev S Y, Saifulin A V, et al. Discharge characteristics in a nonchain HF(DF) laser[J]. Quantum Electronics, 2000, 30(6): 483-485.
[8] Butyzykin I L, Velikanov S D, Evdokimov P A, et al. Experimental study of pulse-periodic DF laser operation with up to 1200-Hz repetition rate and about 25-W average power[J]. Proceedings of SPIE, 2001, 4184: 162-165.
[9] 柯常军, 万重怡, 吴谨. 紧凑的非链式脉冲HF激光器[J]. 光子学报, 2003, 32(5): 513-516.
[10] 柯常军, 谭荣清, 吴谨, 等. 非链式脉冲HF/DF激光的新型引发技术[J]. 激光技术, 2008, 32(2): 119-121.
[11] 柯常军, 张阔海, 孙科, 等. 重复频率放电引发的脉冲HF(DF)激光器[J]. 红外与激光工程, 2007, 36(z1): 304-306.
Ke C J, Zhang K H, Sun K, et al. A periodically pulsed HF/DF gas discharge laser[J]. Infrared and Laser Engineering, 2007, 36(z1): 304-306.
[12] 潘其坤, 谢冀江, 邵春雷, 等. 高功率放电引发非链式脉冲DF激光器[J]. 中国激光, 2015, 42(7): 0702001.
[13] 易爱平, 刘晶儒, 唐影, 等. 电激励重复频率非链式HF激光器[J]. 光学精密工程, 2011, 19(2): 360-366.
[14] 黄珂, 唐影, 易爱平, 等. 非链式电激励脉冲HF激光器[J]. 红外与激光工程, 2010, 39(6): 1026-1029.
Huang K, Tang Y, Yi A P, et al. Characteristics of non-chain discharge-pumped pulse HF laser[J]. Infrared and Laser Engineering, 2010, 39(6): 1026-1029.
[15] 黄珂, 易爱平, 朱峰, 等. 放电引发的非链式高功率重复频率HF/DF激光器[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27(4): 51-55.
Huang K, Yi A P, Zhu F, et al. Discharge initiated non-chain high power repetitively pulsed HF/DF laser[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2015, 27(4): 51-55.
Article Outline
朱峰, 黄珂, 陶波, 黄超, 李高鹏, 沈炎龙, 栾昆鹏. 基态HF分子和介质消耗对重复频率脉冲HF激光输出的影响[J]. 光学学报, 2019, 39(2): 0214001. Feng Zhu, Ke Huang, Bo Tao, Chao Huang, Gaopeng Li, Yanlong Shen, Kunpeng Luan. Influence of Ground-State HF Molecule and Medium Consumption on Output of Repetitively Pulsed HF Laser[J]. Acta Optica Sinica, 2019, 39(2): 0214001.