发光学报, 2010, 31 (4): 503, 网络出版: 2010-08-31
溅射气氛对RF反应磁控溅射制备ZnO薄膜微结构及光致发光特性的影响
Effect of Sputtering Atmosphere on the Structure and Optical Properties of ZnO Thin Films by RF Reactive Magnetron Sputtering
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | O482.31 |
| 栏目: | |
| 项目基金: | 国家自然科学基金(50588201, 50872116)、 国家重大基础研究项目“973”(2007CB616906)、 国家高科技项目“863”(2007AA03Z203)、 高等学校博士点专项科研基金(SRFDP200806130023)、 西南交通大学科研基金(2008B15)资助项目 |
| 收稿日期: | 2009-09-07 |
| 修改稿日期: | 2009-12-24 |
| 网络出版日期: | 2010-08-31 |
| 通讯作者: | 祐卫国 (ywg820502@163.com) |
| 备注: | -- |
祐卫国, 张勇, 李璟, 杨峰, CHENG C H, 赵勇. 溅射气氛对RF反应磁控溅射制备ZnO薄膜微结构及光致发光特性的影响[J]. 发光学报, 2010, 31(4): 503. YOU Wei-guo, ZHANG Yong, LI Jing, YANG Feng, CHENG C H, ZHAO Yong. Effect of Sputtering Atmosphere on the Structure and Optical Properties of ZnO Thin Films by RF Reactive Magnetron Sputtering[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2010, 31(4): 503.
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