溅射气氛对RF反应磁控溅射制备ZnO薄膜微结构及光致发光特性的影响 | 发光学报 -- 中国光学期刊网

发光学报, 2010, 31 (4): 503, 网络出版: 2010-08-31

溅射气氛对RF反应磁控溅射制备ZnO薄膜微结构及光致发光特性的影响

Effect of Sputtering Atmosphere on the Structure and Optical Properties of ZnO Thin Films by RF Reactive Magnetron Sputtering

祐卫国 ^1,*张勇 ¹李璟 ¹杨峰 ¹CHENG C H ²赵勇 ^1,2

作者单位

¹ 西南交通大学超导研究开发中心材料先进技术教育部重点实验室, 四川成都 610031

² School of Materials Science and Engineering, University of New South Wales, Sydney, NSW 2052, Australia

ZnO薄膜射频反应磁控溅射溅射压强氩氧比光致发光 ZnO films RF reactive magnetron sputtering sputtering pressure argon-oxygen ratio photoluminescence

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