光学学报, 2011, 31 (11): 1131001, 网络出版: 2011-10-12
Mo/Si软X射线多层膜中厚度均匀性的精细控制
Precise Control of Thickness Uniformity in Mo/Si Soft X-Ray Multilayer
基本信息
| DOI: | 10.3788/aos201131.1131001 |
| 中图分类号: | O484 |
| 栏目: | 薄膜 |
| 项目基金: | -- |
| 收稿日期: | 2011-06-02 |
| 修改稿日期: | 2011-06-07 |
| 网络出版日期: | 2011-10-12 |
| 通讯作者: | 朱亚丹 (zydhaaun@siom.ac.cn) |
| 备注: | -- |
朱亚丹, 方明, 易葵. Mo/Si软X射线多层膜中厚度均匀性的精细控制[J]. 光学学报, 2011, 31(11): 1131001. Zhu Yadan, Fang Ming, Yi Kui. Precise Control of Thickness Uniformity in Mo/Si Soft X-Ray Multilayer[J]. Acta Optica Sinica, 2011, 31(11): 1131001.
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