光学学报, 2011, 31 (11): 1131001, 网络出版: 2011-10-12
Mo/Si软X射线多层膜中厚度均匀性的精细控制
Precise Control of Thickness Uniformity in Mo/Si Soft X-Ray Multilayer
薄膜 软X射线膜 厚度均匀性 变速转动法 磁控溅射 光学均匀性 thin films soft X-ray multilayer thickness uniformity variable speed rotation magnetron sputtering optical uniformity
知识挖掘
相关论文
2023年
2022年
2021年
2021年
2021年
2021年
2020年
2015年
2012年
2006年
本文相似领域研究进展,
知识服务
本文主要研究领域论文发表情况:
995篇
813篇
247篇
19篇
10篇
1篇
1篇
本文研究领域论文发表情况(统计图):
朱亚丹, 方明, 易葵. Mo/Si软X射线多层膜中厚度均匀性的精细控制[J]. 光学学报, 2011, 31(11): 1131001. Zhu Yadan, Fang Ming, Yi Kui. Precise Control of Thickness Uniformity in Mo/Si Soft X-Ray Multilayer[J]. Acta Optica Sinica, 2011, 31(11): 1131001.