强激光与粒子束, 2014, 26 (7): 072011, 网络出版: 2014-06-30
熔石英再沉积层结构的纳米级表征和杂质分析
Structure characterization of fused silica redeposition layer in nanoscale and analysis of impurities
基本信息
| DOI: | 10.11884/hplpb201426.072011 |
| 中图分类号: | O436 |
| 栏目: | ICF与激光等离子体 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金项目(11104293) |
| 收稿日期: | 2013-09-23 |
| 修改稿日期: | 2014-02-24 |
| 网络出版日期: | 2014-06-30 |
| 通讯作者: | 杨俊 (yangjun@siom.ac.cn) |
| 备注: | -- |
杨俊, 易葵, 魏朝阳, 胡国行, 崔辉, 邵建达. 熔石英再沉积层结构的纳米级表征和杂质分析[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26(7): 072011. Yang Jun, Yi Kui, Wei Chaoyang, Hu Guohang, Cui Hui, Shao Jianda. Structure characterization of fused silica redeposition layer in nanoscale and analysis of impurities[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26(7): 072011.
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