熔石英再沉积层结构的纳米级表征和杂质分析

杨俊; 易葵; 魏朝阳; 胡国行; 崔辉; 邵建达

doi:doi:10.11884/hplpb201426.072011

强激光与粒子束, 2014, 26 (7): 072011, 网络出版: 2014-06-30

熔石英再沉积层结构的纳米级表征和杂质分析

Structure characterization of fused silica redeposition layer in nanoscale and analysis of impurities

杨俊 ^1,2,*易葵 ¹魏朝阳 ¹胡国行 ¹崔辉 ^1,2邵建达 ¹

作者单位

¹ 中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室, 上海 201800

² 中国科学院大学, 北京 100049

补充材料

杨俊, 易葵, 魏朝阳, 胡国行, 崔辉, 邵建达. 熔石英再沉积层结构的纳米级表征和杂质分析[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26(7): 072011. Yang Jun, Yi Kui, Wei Chaoyang, Hu Guohang, Cui Hui, Shao Jianda. Structure characterization of fused silica redeposition layer in nanoscale and analysis of impurities[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26(7): 072011.