半导体光电, 2019, 40 (5): 643, 网络出版: 2019-11-05
SiNx/SiOxNy叠层结构防潮能力的研究
Research on Moisture Barrier Property of SiNx/SiOxNy Stacks Structure
基本信息
DOI: | 10.16818/j.issn1001-5868.2019.05.008 |
中图分类号: | TN383.1 |
栏目: | 材料、结构及工艺 |
项目基金: | 国家自然科学基金项目(61675024). |
收稿日期: | 2019-03-25 |
修改稿日期: | -- |
网络出版日期: | 2019-11-05 |
通讯作者: | 许海飞 (1173667897@qq.com) |
备注: | -- |
许海飞, 喻志农, 程锦, 栗旭阳, 陈永华, 李言, 薛建设. SiNx/SiOxNy叠层结构防潮能力的研究[J]. 半导体光电, 2019, 40(5): 643. XU Haifei, YU Zhinong, CHENG Jin, LI Xuyang, CHEN Yonghua, LI Yan, XUE Jianshe. Research on Moisture Barrier Property of SiNx/SiOxNy Stacks Structure[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2019, 40(5): 643.