斜入射微结构高度误差的优化设计

杨亮亮; 刘成林; 张志海; 唐健

doi:doi:10.3788/lop54.060501

激光与光电子学进展, 2017, 54 (6): 060501, 网络出版: 2017-06-08

斜入射微结构高度误差的优化设计

Optimal Design of Depth-Scaling Error with Oblique Incidence

杨亮亮 ^*刘成林张志海唐健

作者单位

盐城师范学院新能源与电子工程学院，江苏盐城 224051

基本信息

DOI:	10.3788/lop54.060501
中图分类号:	O436
栏目:	衍射与光栅
项目基金:	国家自然科学基金(11604289)、江苏省高校自然科学研究基金(16KJD140001)
收稿日期:	2017-01-12
修改稿日期:	2017-01-23
网络出版日期:	2017-06-08
通讯作者:	杨亮亮 (yang_liangliang@163.com)
备注:	--

杨亮亮, 刘成林, 张志海, 唐健. 斜入射微结构高度误差的优化设计[J]. 激光与光电子学进展, 2017, 54(6): 060501. Yang Liangliang, Liu Chenglin, Zhang Zhihai, Tang Jian. Optimal Design of Depth-Scaling Error with Oblique Incidence[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2017, 54(6): 060501.