光电工程, 2006, 33 (6): 37, 网络出版: 2007-11-14
不同氧分压下电子束蒸发氧化锆薄膜的特性
Characters of ZrO2 films deposited by electron beam evaporation at different oxygen partial pressure
基本信息
DOI: | -- |
中图分类号: | O484.1 |
栏目: | 薄膜光学 |
项目基金: | 深圳大学科研启动基金资助课题(200617) |
收稿日期: | 2005-04-08 |
修改稿日期: | 2005-10-31 |
网络出版日期: | 2007-11-14 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
张东平, 邵淑英, 黄建兵, 占美琼, 范正修, 邵建达. 不同氧分压下电子束蒸发氧化锆薄膜的特性[J]. 光电工程, 2006, 33(6): 37. 张东平, 邵淑英, 黄建兵, 占美琼, 范正修, 邵建达. Characters of ZrO2 films deposited by electron beam evaporation at different oxygen partial pressure[J]. Opto-Electronic Engineering, 2006, 33(6): 37.