提拉法SiO<sub>2</sub>化学膜厚度与折射率的变化规律研究

张日东; 严鸿维; 吕海兵; 张尽力; 晏良宏; 赵松楠; 王韬; 雷洁红

doi:doi:10.11884/hplpb201426.072005

强激光与粒子束, 2014, 26 (7): 072005, 网络出版: 2014-06-30

提拉法SiO₂化学膜厚度与折射率的变化规律研究

Changes of thickness and refractive index of silica sol-gel film by dip coating process

张日东 ^1,2,*严鸿维 ²吕海兵 ²张尽力 ²晏良宏 ²赵松楠 ²王韬 ²雷洁红 ¹

作者单位

¹ 西华师范大学物理与电子信息学院，四川南充 637009

² 中国工程物理研究院激光聚变研究中心，四川绵阳 621900

补充材料

张日东, 严鸿维, 吕海兵, 张尽力, 晏良宏, 赵松楠, 王韬, 雷洁红. 提拉法SiO₂化学膜厚度与折射率的变化规律研究[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26(7): 072005. Zhang Ridong, Yan Hongwei, Lü Haibing, Zhang Jinli, Yan Lianghong, Zhao Songnan, Wang Tao, Lei Jiehong. Changes of thickness and refractive index of silica sol-gel film by dip coating process[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26(7): 072005.