激光与光电子学进展, 2017, 54 (2): 023401, 网络出版: 2017-02-10
极紫外光刻动态气体锁抑制率的仿真研究 
下载： 567次
Simulation Investigation on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock in Extreme Ultraviolet Lithography
基本信息
| DOI: | 10.3788/lop54.023401 |
| 中图分类号: | TN23;O439 |
| 栏目: | X射线光学 |
| 项目基金: | 国家科技重大专项(2012ZX02702007) |
| 收稿日期: | 2016-10-08 |
| 修改稿日期: | 2016-10-12 |
| 网络出版日期: | 2017-02-10 |
| 通讯作者: | 陈进新 (ashion@aoe.ac.cn) |
| 备注: | -- |
陈进新, 王宇, 谢婉露. 极紫外光刻动态气体锁抑制率的仿真研究[J]. 激光与光电子学进展, 2017, 54(2): 023401. Chen Jinxin, Wang Yu, Xie Wanlu. Simulation Investigation on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock in Extreme Ultraviolet Lithography[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2017, 54(2): 023401.
PDF全文
