极紫外光刻动态气体锁抑制率的仿真研究

陈进新; 王宇; 谢婉露

doi:doi:10.3788/lop54.023401

激光与光电子学进展, 2017, 54 (2): 023401, 网络出版: 2017-02-10

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Simulation Investigation on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock in Extreme Ultraviolet Lithography

陈进新 ^1,2,*王宇 ¹谢婉露 ^1,2

作者单位

¹ 中国科学院光电研究院, 北京 100094

² 北京市准分子激光工程技术研究中心, 北京 100094

补充材料

陈进新, 王宇, 谢婉露. 极紫外光刻动态气体锁抑制率的仿真研究[J]. 激光与光电子学进展, 2017, 54(2): 023401. Chen Jinxin, Wang Yu, Xie Wanlu. Simulation Investigation on Suppression Ratio of Dynamic Gas Lock in Extreme Ultraviolet Lithography[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2017, 54(2): 023401.