作者单位
摘要
1 广西师范学院 化学与材料科学学院, 广西 南宁 530001
2 广东怀集中学, 广东 怀集 526400
3 西安鸿宇光电技术有限公司, 陕西 西安 710100
4 北京中村宇极科技有限公司, 北京 100081
H-PAF(Micro-porous aluminum fluoride)是一种比表面积为20~200 m2/g 的多孔性氟化物, 具有熔点低、活性高等特性。在Eu2+∶(Sr, Ca)AlSiN3烧成工艺中作为助熔剂使用, 与传统的氟化物、硼酸等助熔剂相比, 可以有效增加Eu2+∶(Sr, Ca)AlSiN3荧光粉在合成过程中总的反应活性, 降低反应温度50 ℃以上, 并改善荧光粉的发光性能。本文以H-PAF多孔性氟化物为助熔剂, 合成了Eu2+∶(Sr,Ca)AlSiN3荧光粉, 合成温度从1 800 ℃降低到1 750 ℃, 而且XRD衍射峰更尖锐, 说明H-PAF的添加使晶体结晶性更好。测试了Eu2+∶(Sr,Ca)AlSiN3荧光粉搭配Ga-YAG绿色荧光粉制成器件后的光效。发现添加PAF后, Eu2+∶(Sr,Ca)AlSiN3荧光粉用粉量降低约5%, 器件光通量提高2%以上。
多孔性 比表面积 氟化物 助熔剂 反应活性 porous fluoride flux specific surface area high activity characteristic 
发光学报
2018, 39(7): 930

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