H-PAF(Micro-porous aluminum fluoride)是一种比表面积为20～200 m2/g 的多孔性氟化物, 具有熔点低、活性高等特性。在Eu2+∶(Sr, Ca)AlSiN3烧成工艺中作为助熔剂使用, 与传统的氟化物、硼酸等助熔剂相比, 可以有效增加Eu2+∶(Sr, Ca)AlSiN3荧光粉在合成过程中总的反应活性, 降低反应温度50 ℃以上, 并改善荧光粉的发光性能。本文以H-PAF多孔性氟化物为助熔剂, 合成了Eu2+∶(Sr,Ca)AlSiN3荧光粉, 合成温度从1 800 ℃降低到1 750 ℃, 而且XRD衍射峰更尖锐, 说明H-PAF的添加使晶体结晶性更好。测试了Eu2+∶(Sr,Ca)AlSiN3荧光粉搭配Ga-YAG绿色荧光粉制成器件后的光效。发现添加PAF后, Eu2+∶(Sr,Ca)AlSiN3荧光粉用粉量降低约5%, 器件光通量提高2%以上。

随着斜角沉积及刻蚀等技术的不断发展和完善，具有纳米多孔性结构的低折射率材料的获得为设计和制备减反膜提供了新思路，在减少大角度入射光的反射，维持色平衡方面具有重要的应用价值。结合纳米多孔性材料在H-K9L光学玻璃表面利用遗传算法优化设计了一种具有全向宽波带减反特性的4层渐变折射率减反射膜系结构，计算了其反射率变化曲线，并与常规材料制备的单层膜进行了比较，发现在入射角为0°~75°的范围内可以对可见光起到有效的减反射作用，其关于角度和波长的平均反射率可以降低到0.21%。