兰州物理研究所 表面工程技术国家级重点实验室,甘肃 兰州 730000
研究了一维光子晶体缺陷膜的滤波特性,重点研究了影响其滤波特性的因素及其影响规律。并对利用一维光子晶体技术开展多通道滤光片设计的可行性进行了研究。结果表明,利用光子晶体的滤波特性,可以设计出传统光学薄膜设计方法难以实现的多通道窄带滤光片,并根据实际需要,设计了一种双通道窄带滤光片。
光学设计 一维光子晶体 滤光片 光学薄膜 缺陷模
1 兰州物理研究所表面工程技术国家重点实验室,甘肃,兰州,730000
2 上海欧菲尔光电有限公司,上海,200434
线性渐变滤光片是一种特殊的滤光片,它的中心波长是随着在滤光片上位置的不同而变化的.采用离子束辅助沉积技术研制的线性渐变滤光片在0.4～1.1 μm波段有10通道,平均透射率从77.5%增加到97.4%,在基板的中间任一位置只透过0.4～1.1 μm内的一种特定波长的光.同时讨论了膜厚均匀性对线性渐变滤光片光谱性能的影响,计算表明镀制线性渐变滤光片时,在一定的配置下基片具有最佳的尺寸大小.
线性渐变滤光片 多光谱 膜厚均匀性
针对目前二元光学元件掩模制作工艺过程的诸多不足,对连续型平面衍射聚光透镜掩模的激光直写制作工艺进行了研究.基于基尔霍夫标量衍射理论,采用光线追迹法设计了连续型平面衍射聚光透镜掩模.采用激光直写技术,利用CLWS-300M/C极坐标激光直写设备、S1830光刻胶和MICROPOSIT-351显影液,进行了刻写实验.实验表明,激光能量、预烘烤温度、显影液浓度以及预曝光对掩模微结构的制作均有影响.最后制作了掩模.与二元光学元件掩模的制作工艺相比,该技术具有工艺简单、制作周期短且易于操作的优点.
掩模 聚光透镜 平面衍射 激光直写技术 mask focusing lens plane diffraction laser direct writing
中国科学院兰州物理研究所,甘肃,兰州,730000
提出了一种基于遗传算法的衍射光学元件优化设计方法;在衍射光学元件设计中遗传算法运行参数对遗传算法性能有一定的影响:采用较大的群体规模,遗传算法越容易获得最优解;交叉算子越大,遗传算法全局搜索能力越强;选择算子对遗传算法的影响不是太大;如果要进一步提高解的精度,可选取较大的终止代数.数值计算结果表明,用遗传算法优化设计的衍射光学元件,其误差小于5.2%,衍射效率达到91.2%.遗传算法很适合衍射光学元件的优化设计.
遗传算法 衍射光学元件 优化设计
介绍了激光直写技术制作二元光学元件铬版掩模的原理,分析了影响铬版上铬膜氧化程度的因素,研究了铬版上 刻写掩模图案时激光能量与刻写半径之间的关系,总结了利用激光直写方法刻写二元光学元件铬版掩模过程中激光能量的 形成方法。
激光直写 二元光学元件掩模 铬版 laser writing binary iotical element mask Cr film
