吴涵 1,2,*吴福伟 1,2尚士泽 1,2杨予昊 1,2李大圣 1,2
作者单位
摘要
1 中国电子科技集团公司 a.南京电子技术研究所
2 b.智能感知技术重点实验室, 江苏南京 210039
受外界因素影响, 机载合成孔径雷达 (SAR)的飞行航迹与理想状态相比往往存在偏差, 同时平台导航系统精确度有限, 故需要从回波数据中精确估计多普勒中心频率, 从而进行距离走动校正。多普勒中心估计误差决定了距离走动的校正精确度, 从而决定了合成孔径成像方位压缩效果, 是影响 SAR成像质量的关键。在机载太赫兹成像雷达系统中, 对运动补偿精确度的要求达到了亚毫米级, 从而对多普勒中心估计误差提出了更高的要求。传统的多普勒中心估计方法在正侧视或小斜视模式下具有良好的效果, 但在具有一定斜视角的模式下往往偏差较大。为了在多模式下有效完成太赫兹视频 SAR距离走动校正, 本文基于实测数据结果, 从传统的包络估计方法出发, 探究了一种改进包络估计的多普勒中心估计方法。通过比较, 本文所提出的改进包络估计方法在对太赫兹视频 SAR正侧视模式回波数据的多普勒中心估计上与另外两种传统方法都具有很高精确度, 但在本文所提方法扫描模式下对 97%的图像都作出了较为精确的估计, 精确度与鲁棒性明显高于另外两种传统方法。结果说明了本文所提出的多普勒中心估计方法具有更好的鲁棒性、更高的效率。这一工作有助于高频段 SAR多模式下的成像研究。
改进包络估计法 太赫兹视频 SAR 多普勒中心估计 距离走动校正 improved envelope estimation method THz video-SAR Doppler centroid frequency estimation range walk correction 
太赫兹科学与电子信息学报
2022, 20(11): 1123
作者单位
摘要
西安电子科技大学 微电子学院 宽禁带半导体国家重点实验室,西安 710071
随着电磁环境的日益复杂,保证集成电路(IC)的可靠性成为一个巨大的挑战。在此基础上,通过对CMOS反相器的仿真和实验研究,研究了快上升沿电磁脉冲(EMP)引起的陷阱辅助隧穿(TAT)效应。对此进行了详细的机理分析用于解释其物理损伤过程。EMP感应电场在氧化层中产生陷阱和泄漏电流,从而导致器件的输出退化和热失效。建立了退化和失效的理论模型,以描述输出退化及热积累对EMP特征的依赖性。温度分布函数由半导体中的热传导方程导出。基于TLP测试系统进行的相应实验证实了出现的性能退化,与机理分析一致。Sentaurus TCAD的仿真结果表明,EMP引起的损坏是由栅极氧化层中发生的TAT电流路径引起的,这也是器件的易烧坏位置。此外,还讨论了器件失效与脉冲上升沿的关系。本文的机理分析有助于加强其他半导体器件的EMP可靠性研究,可以对CMOS数字集成电路的EMP加固提出建议。
CMOS反相器 电磁脉冲 陷阱辅助隧穿 机理分析 CMOS inverter electromagnetic pulse trap-assisted tunneling mechanism analysis 
强激光与粒子束
2022, 34(8): 083002
作者单位
摘要
西安电子科技大学 微电子学院, 教育部宽禁带半导体材料与器件重点实验室, 西安 710071
建立了三种不同结构的硅基单片式复合晶体管(由T1和T2两个晶体管构成)的二维电热模型, 研究了高功率微波对不同结构的硅基单片式复合晶体管的损伤效应的影响。获得了不同器件结构下导致复合晶体管损伤的损伤功率阈值和损伤能量阈值分别与脉宽的关系。结果表明, 当复合晶体管的总体尺寸不变而T2和T1晶体管的面积比值更大时需要更多的功率和能量来损伤器件。通过分析器件内部电场、电流密度和温度分布的变化, 得到了复合晶体管的结构对其微波损伤效应的影响规律。对比发现, 三种结构的复合晶体管的损伤点均位于T2管的发射极附近, 随着T2和T1晶体管面积比的增大, 电场、电流密度和温度在器件内部的分布将变得更加分散。此外, 在发射极处增加外接电阻Re, 研究表明损伤时间随发射极电阻的增大而增加。因此可以得出结论, 适当改变器件结构或增加外接元件可以增强器件的抗微波损伤能力。晶体管的仿真毁伤点与实验结果一致。
单片式复合晶体管 高功率微波 器件结构 外加元件 monolithic composite transistor high power microwave device structures external component 
强激光与粒子束
2019, 31(10): 103220

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