采用激光在微波介质陶瓷滤波器的镍、铜、银的镀层表面刻蚀制备耦合电容图形。分别研究了激光刻蚀功率、激光刻蚀速度对图形微槽深度、产品合格率和产品二次污染率的影响。结果表明，在激光刻蚀速度一定时，耦合电容图形微槽的深度、产品的二次污染率随激光刻蚀功率先增大后减小，激光刻蚀功率为15 W时达到最大值；在激光刻蚀功率一定时，耦合电容图形微槽的深度、产品的二次污染率随激光刻蚀速度的增大而减小。产品合格率在激光刻蚀速度一定时，激光刻蚀功率达到13 W以后保持在95%以上；在激光刻蚀功率一定时，激光刻蚀速度达到1 000 mm/min以前保持在95%以上。因此最佳的激光刻蚀参数为：刻蚀速度为800 mm/min，刻蚀功率为18 W。

为了研究激光参数对Ag纳米粒子胶体的影响,采用不同重复率和能量密度的脉冲激光对蒸馏水中的Ag靶烧蚀10 min来制备Ag纳米粒子胶体。通过透射电镜(TEM)和紫外-可见(UV-Vis) 分光光度计分析了Ag纳米粒子胶体的大小、形貌和吸收光谱,同时由Image-ProPlus软件分析计算了粒子的平均粒径及其分布。结果表明,由重复率为10 Hz,能量密度为4.2 J/cm2的脉冲激光烧蚀10 min后制备的Ag胶体纳米粒子平均粒径最小(D=17.54 nm),粒径分布最窄(δ=36.86 nm),且形貌较均匀。从而证实了通过调节激光参数来控制纳米粒子尺寸和形貌的可行性。另外,在实验基础上,应用“熔化生长”与“爆炸”模型讨论了激光烧蚀工艺参数对Ag纳米粒子胶体的影响规律。

为有效缩短脉冲激光烧蚀制备有机硅聚合物聚二苯基硅亚甲基硅烷(PDPhSM)基纳米复合薄膜工艺中繁琐的实验过程,分别采用多层前馈(BP)神经网络和径向基函数(RBF)神经网络对PDPhSM基纳米复合薄膜的制备工艺与聚合效率之间的关系进行建模,并将其运用到聚合效率的预测中去,讨论了激光能量密度、环境压强、靶衬距离、沉积时间和聚合效率之间的关系。克服了以往单因素实验法不能正确反映制备工艺和聚合效率之间复杂的非线性关系的弱点。预测和验证结果均表明实验值和网络预测值之间相对误差都在10%以内,但径向基函数神经网络较多层前馈神经网络能够更精确、更可靠地逼近它们之间的非线性关系。该方法为有效、快捷、经济地开发研制PDPhSM基纳米复合薄膜提供了新的思路和有效手段。