作者单位
摘要
1 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,光及电磁波研究中心,杭州,310027
2 浙江工程学院材料工程中心,杭州,310027
以硅烷和氧化二氮作为反应气体,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,不使用掺杂,在单晶硅衬底上制备了用于平面光波导的二氧化硅薄膜.研究了薄膜折射率和淀积速率与工艺参量之间的关系,通过棱镜耦合仪、傅里叶变换红外光谱、原子力显微镜等测试手段,分析了薄膜的结构和光学特性.结果表明,实验能快速生长厚二氧化硅薄膜,薄膜表面平整,颗粒度均匀,同时薄膜具有折射率精确可控和红外透射性能好的特点,非常适合制作光波导器件.
导波与光纤光学 平面光波导 等离子体增强化学气相沉积 二氧化硅薄膜 
光学学报
2004, 24(1): 24

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