采用氧离子辅助电子束反应蒸发工艺在K9玻璃基底上制备了性能优异的ITO薄膜.通过对薄膜方块电阻和透过率的测量分析,研究了基底温度、离子束流、沉积速率等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响.发现升高基底温度有利于减小薄膜的短波吸收,但过高的基底温度会增加薄膜的电阻率,合适的沉积速率可以同时改善薄膜的光学和电学性能.在比较理想的工艺参数下制备的ITO薄膜的电阻率约为5.4×10-4Ω·cm,可见光(波长范围425～685 nm)平均透过率达84.8%,其光电性能均达到实用化要求.
ITO薄膜 氧离子辅助 反应蒸发
分析了膜系设计中的膜层结构选择性优化方法,阐述了用光电极值法控制非λ/4膜系的膜厚的方法一计算出沉积每一层具有极值的波长,然后根据此波长,给出一定的过正量进行膜厚模拟,最后确定每一层的监控波长.利用这种方法可以提高膜系厚度的控制精度.该文介绍了自主开发膜系设计软件的部分功能,并利用该软件设计并镀制出1060nm的激光析光膜.
结构选择性优化设计 极值法 过正控制量 光学监控沉积仿真 selective-optimizing design turning point monitoring overshoot deposition simulation optical monitoring
华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉,430074
微空心阴极放电(MHCD)是指阴极孔径为亚毫米量级时的高气压辉光放电.本文介绍了微空心阴极放电的研究进展,分析了其光谱特性,最后讨论了它的应用前景.
高气压辉光放电 准分子
