运用遗传算法优化设计了Mo／B₄C多层膜结构。入射光入射角度取10°时，设计的理想多层膜膜对数为150，周期为3．59nm，Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0．41，峰值反射率为33．29%。采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo／B₄C多层膜。通过在Mo／B₄C多层膜与基底之间增加15 nm厚的Cr粘附层，提高多层膜与基底的粘附力。另外，还采用调整多层膜Gamma值的方法减小其内应力，调整后多层膜结构周期为3．59 nm，Mo膜厚1．97 nm，B₄C膜厚1．62 nm，峰值反射率26．34%。制备了膜对数为150的Mo／B₄C膜并测量了其反射率，在波长7．03 nm处，Mo／B₄C多层膜的近正入射反射率为21．0%。最后对测量结果进行了拟合，拟合得到Mo／B₄C多层膜的周期为3．60 nm，Gamma值0．60，界面粗糙度为0．30 nm。