研究了产品开发过程中新出现的一种原因未知的横向线状Mura问题。通过分析和改善研究表明, Gate Fan-out区域栅极线金属交替布线设计中不同金属层线电阻差异是导致横向线状未确认Mura发生的主要原因；通过变更栅极线金属层厚度及材料, 以降低整体电阻和不同金属层线电阻差异可以解决此种不良现象；并通过试验论证此方法的量产可行性。

影像残留是一种TFT-LCD屏的固有特性。主要是由于长时间显示静态画面时液晶材料的极化敏感性造成的。这种极化影响了液晶材料的光学特性，并阻止液晶分子完全恢复到正常松弛状态。本文主要探讨了通过改变TFT设计来改善面影像残留现象的方案。通过设计实验变更TFT-LCD的主要参数(Pixel设计、Aperture Ratio、ΔVp等)，提出了4种面影像残留改善方案并制作了样品。对这4种改善方案的试制样品进行了TFT-LCD面影像残留水平测量和评价，分析了各像素设计因素对面影像残留水平的影响；同时对试制样品的画面品质进行了评价，为解决相关画面品质问题对该方案进行了设计优化，最终获得了一种较佳的面影像残留改善方案。

未确认Mura是一种能够影响TFT-LCD 画面品质的不良。文章对未确认Mura不良进行了详细的分析,认为扇形区域出现有源层残留是导致未确认Mura不良发生的原因，介绍了一种通过变更曝光工艺条件来解决此种不良的方法，并通过试验论证了此方法的量产可行性。