1 中国科学院 微电子研究所 中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室, 北京 100029
2 哈尔滨理工大学 测控技术与通信工程学院 测控技术与仪器黑龙江省高校重点实验室, 黑龙江 哈尔滨 150080
针对显影工艺中水的表面张力导致的高高宽比抗蚀剂图形的坍塌及黏连, 提出了一种基于微波加热的干燥技术来有效改善纳米抗蚀剂图形的干燥效果。该方法利用微波穿透光刻胶结构直接加热光刻胶图形间隙中残存的去离子水, 水分子吸收微波的光子能量迅速蒸发, 从而有效地抑制光刻胶图形的坍塌与黏连现象。利用提出的基于微波加热的干燥方法, 成功获取了高260 nm、宽16 nm的光刻胶线条组和直径为20 nm的光刻胶柱形阵列, 其中高高宽比线条组和由15 625根柱子组成的柱形阵列结构没有出现坍塌及黏连情况, 验证了在微波产生的交变电场作用下, 可以减小水分子团簇, 降低水的表面张力。
电子束光刻 光刻胶图形 坍塌 黏连 高宽比 微波加热 electron beam lithography photoresist collapse adhesion high aspect ratio micro wave heating
北京工业大学光电子技术省部共建教育部重点实验室, 北京 100124
对GaN基蓝光功率型LED在老化前和老化期间施加反向人体模式静电放电(ESD)，并对静电打击前后及老化前后的LED光学电学参数进行分析。实验结果及理论分析表明，ESD使LED芯片有源层及限制层中产生缺陷，最终导致电学特性及光学特性的变化。ESD给LED带来的损伤可在老化前期过程中被局部恢复，但随着老化时间推移，电参数漂移程度及光衰幅度不断增大，而老化过程中LED对ESD的敏感度增加，使LED抗ESD能力减弱。
光学器件 氮化镓 静电放电 电流电压特性
