1 同济大学 物理系 精密光学工程技术研究所, 上海 200092
2 中国运载火箭研究院 试验物理与计算数学实验室, 北京 100076
采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构，在基板65 mm长度范围内，多层膜周期从8.21 nm线性减小到6.57 nm，周期梯度为0.03 nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明：该横向梯度分布周期多层膜上不同位置，能反射在13.3~15.9 nm波段范围内不同波长的极紫外光，反射率为60%~65%。
Mo/Si多层膜 磁控溅射 梯度多层膜 反射率 同步辐射 Mo/Si multilayer magnetron sputtering laterally graded multilayer reflectivity synchrotron radiation
1 同济大学 物理系 精密光学工程技术研究所, 上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室, 上海 200092
2 中国运载火箭研究院 试验物理与计算数学实验室, 北京 100076
为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求, 采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法, 在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率, 极大地提高了薄膜厚度的均匀性。采用X射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量, 结果表明, 在直径120 mm范围内, Mo/Si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%。同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率, 结果表明, 在直径120 mm范围内, 多层膜的膜层厚度均匀, 在入射角10°时13.75 nm波长处平均反射率为 66.82%。
Mo/Si多层膜 磁控溅射 均匀性 反射率 同步辐射 Mo/Si multilayer magnetron sputtering uniformity reflectivity synchrotron radiation
Author Affiliations
Abstract
1 Institute of Precision Optical Engineering (IPOE), Physics Department, Tongji University, Shanghai 200092, China
2 Experimental Physics and Computational Mathematics Laboratory, Beijing 100076, China
Mo/Si and SiC/Mg period multilayer mirrors are investigated for solar He-II radiation at 30.4 nm. The optical stabilities of these multilayers are measured before and after space environment simulation tests for the purpose of potential application in space extreme ultraviolet (EUV) observations. All these multilayers are deposited by magnetron sputtering method on microcrystalline glass substrates. Then thermal cycling stability and radiation exposure experiments are performed to simulate the space environment. The testing results indicate that the Mo/Si multilayer is more stable than the SiC/Mg multilayer. The reflectivity of the SiC/Mg multilayer decreases slightly.
多层膜 极紫外天文观测 空间环境实验 磁控溅射 同步辐射 310.0310 Thin films 350.1260 Astronomical optics 310.1860 Deposition and fabrication 310.6860 Thin films, optical properties Chinese Optics Letters
2010, 8(s1): 167
