1 中国科学院光电技术研究所 微细加工光学技术国家重点实验室，成都 610209
2 中国科学院研究生院，北京 100049
本文提出和研究了利用超分辨缩小成像平板超透镜，在i 线光源波长下实现纳米尺度光刻方法。为了在超分辨透镜像面位置获得高质量的光刻图形，采用超分辨透镜-光刻胶-反射银膜的结构方式，解决由于超透镜磁场偏振传输模式带来的成像光场畸变问题，大大提高了成像质量和光场对比度。采用掩模图形结构预补偿的方法，消除超分辨透镜的倍率畸变像差影响。基于有限元电磁计算方法，数值模拟结果验证了该方法在i 线光源波长下实现纳米尺度缩小成像光刻的可能性。在i 线(365 nm)光源波长下，得到约35 nm 线宽的高对比成像光场模拟结果，并分析了结构参数变化对成像光场带来的影响。
纳米光刻 超分辨成像 表面等离子体 超透镜 nanolithography sub-wavelength resolution imaging surface plasmons superlens
