1 中国科学院光电技术研究所，成都 610209
2 中国科学院研究生院，北京 100049
在大数值孔径深紫外光学系统中，需要使用宽入射角范围的增透膜光学元件。选择 LaF3和 MgF2两种镀膜材料，设计了适用于深紫外宽入射角范围的三层、五层和七层三种增透膜系。实验使用热舟蒸发在熔融石英基底上镀制了设计的薄膜，并用紫外分光光度计对其光谱性能进行了测试，得到了在宽入射角范围内具有较高透过率的深紫外增透膜元件。双面镀五层增透膜系的熔石英基片在 0°～55°入射角内的剩余反射率小于 2.5%，在 0°～20°入射角内的透过率大于 98%。
深紫外 增透膜 宽入射角范围 剩余反射率 deep ultraviolet antireflection coatings wide angle of incidence residual reflectance
1 中国科学院光电技术研究所, 四川 成都 610209
2 中国科学院研究生院, 北京 100049
为制备出在130~210 nm波段具有良好光谱性能的铝反射膜，优化设计了铝反射镜中铝层和保护层氟化镁的厚度，理论确定铝层和氟化镁保护层最佳厚度分别为80 nm和33 nm。采用热舟蒸发工艺，在BK7基片上制备了Al反射膜样品，获得了130~210 nm波长范围内反射率均大于80%的金属铝膜。研究了铝层沉积速率和紫外辐照处理对薄膜性能的影响，并考察了铝膜光谱性能的时效性。结果表明铝层沉积速率越快，制备的铝膜反射率越高；合理地存放铝膜元件，可以长时间内保持铝膜的光谱性能。适当的紫外辐照处理能进一步提高铝膜在真空紫外波段的反射率。
薄膜 铝反射膜 蒸发速率 真空紫外 时效性 紫外辐照
1 中国科学院光电技术研究所, 四川 成都 610209
2 中国科学院研究生院, 北京 100049
为了满足设计和生产多层膜系时精确确定薄膜材料光学常数的需要，建立一种基于透射率光谱包络来获取弱吸收光学薄膜光学常数的均匀模型。为消除基底背面反射对光学薄膜光谱性能测量的影响，给出一种非破坏性的薄膜光学特性校正方法，校正实测光谱数据获得光学薄膜的单面光谱，并给出确定基底光学常数的方法。研究钼舟热蒸发工艺制备的沉积在CaF2基底上的LaF3薄膜样品，并获得了刚沉积的和紫外照射处理40 min后的LaF3薄膜以及CaF2基底在160~340 nm的光学常数。结果表明，紫外照射处理可以提高LaF3薄膜的光学特性（增加折射率和降低消光系数），并降低LaF3薄膜的物理厚度。
薄膜 光学常数 分光光度法 紫外照射处理
采用特定的工艺同一罩镀制三种不同基片倾斜角度下的氟化镱(YbF3)薄膜样品，分别采用原子力显微镜、红外分光光度计测量了单层膜的粗糙度、透射率，根据透射率值采用包络法计算了薄膜的折射率，并由堆积密度的计算公式计算了薄膜的堆积密度。测量及计算结果表明：随着基片倾斜角度即相应薄膜沉积角度的增加，薄膜的粗糙度变差，折射率及堆积密度变小。
蒸汽入射角度 粗糙度 折射率 聚集密度 vapor incidence angle roughness refractive index stacking density
