以光束穿过三维高速流场为物理模型,研究了由于辐射加热气流对流场的干扰及激光束穿过流场后光束远场的分布。应用二维哈特曼波前测量系统,对高功率光束在风洞高速气流传输中的气动光学效应进行了测量。结果表明，气流未电离情况下，激光与高速气流相互作用对气流的温度、密度等参数影响很小，通过该区域流场的光束波前基本没有变化。

为了测量激光辐照薄膜的起始时间，采用了一种简洁易行的测量方法，利用波长1．06μm和1．315μm连续激光以及1．06μm单脉冲激光辐照典型薄膜光学元件，通过探测器接收激光脉冲信号和薄膜表面的激光反射信号，薄膜表面反射信号在激光辐照过程中的某个时刻发生突变，发生突变的时间对应着薄膜发生损伤的时间。得到1．06μm连续激光强度为7133W／cm²时，反射信号在0．8s发生突变，强度为11776W／cm²时，反射信号在0．4s发生变化；1．06μm单脉冲激光能量为48．725mJ，97．45mJ，194．9mJ时，薄膜损伤时间为3．63ns，2．727ns和1．09ns；1．315μm连续激光强度为2743W／cm²时，反射光信号在辐照时间t=3．44s发生突变；强度为4128W／cm²时，薄膜表面反射光信号在辐照时间t=1．44s发生突变。结果表明，通过测量薄膜表面反射信号的突变来确定薄膜损伤的起始时间，对于薄膜抗激光加固，以及提高光电系统的抗激光能力有着重要的意义。

采用1.06 μm单脉冲激光在不同能量密度下辐照特殊光电系统中典型薄膜光学元件,理论分析了激光辐照薄膜元件产生的温度场和热应力场,在此基础上建立了激光辐照多层薄膜的物理模型,计算软件使用ANSYS软件的热分析模块对激光辐照薄膜元件产生的温度场和热应力场进行了模拟,分别给出不同激光能量密度下薄膜表面光斑中心的温度场、径向温度场和轴向温度场分布;同时给出不同能量密度下薄膜的轴向、径向和环向热应力分布.并对激光辐照薄膜元件产生的温度场、热应力场进行了分析,阐明了原因.

用1．06μm连续激光辐照TiO₂／SiO₂薄膜元件，在不同强度下测量了激光辐照TiO₂／SiO₂薄膜元件引起反射信号幅度随时间的变化，并观察到薄膜从基体材料表面起泡、膜层脱落的现象。研究结果表明，TiO₂／SiO₂薄膜的反射光信号变化是连续激光辐照薄膜元件产生的热效应引起的；在激光辐照过程中，薄膜元件基体材料产生的热变形差别是基体起泡、脱落的主要原因。

成功研制了高能炸药抽运光解碘激光器系统，实现了爆炸激光器装置的稳定激光输出，并获得了近百焦耳的激光输出能量。实验中分别测量了101.325 kPa下氩气中冲击波阵面的辐射光谱及冲击波阵面传播速度。该爆炸激光器系统利用七氟碘丙烷C3F7I作为激光工作物质，高能炸药作为抽运能源，实验中获得了较好的爆炸激光波形，激光脉宽(半峰全宽(FWHM))约34 μs，最小光束发散角小于20 mrad。详细介绍了爆炸激光器的工作原理，针对具体的实验装置及实验技术路线进行了分析和描述。分别在不同实验条件下开展了相关爆炸激光实验，对实验结果进行了分析，并对影响爆炸激光输出的因素进行了分析和讨论，为进一步研制更大能量的爆炸激光装置打下了基础。

利用1.06 μm连续激光在不同强度下辐照TiO₂/SiO₂/K₉薄膜元件,实验中用红外热像仪测量激光辐照在TiO₂/SiO₂/K₉元件表面引起的温升随时间的变化,通过数据处理,获得激光辐照区域最高温度随辐照时间的增加而增加.同时,给出材料温升随材料发射率的变化关系.并用程序模拟不同激光强度下薄膜温度场的分布,通过实验测量数据校正数值模拟计算结果,给出TiO₂/SiO₂/K₉薄膜元件温度随激光辐照强度和辐照时间的变化规律.并且获得在薄膜厚度方向:薄膜表面温度最高,基底与薄膜接触处温度最低;沿径向:激光辐照中心温度最高,边沿温度最低.

首次提出激光辐照下双层金属板界面会由于变形而产生脱离,从而对双层板之间的传热有明显的影响,通过实验和数值模拟验证这一提法.该工作丰富了接触热阻概念,有助于进一步加深对强激光破坏机理的研究,同时提供了一条有效的抗强激光加固的途径.