1 辽宁科技大学 化学工程学院, 辽宁 鞍山 114051
2 辽宁科技大学 表面工程研究所, 辽宁 鞍山 114051
3 鞍钢集团钢铁研究院 海洋装备用金属材料及其应用国家重点实验室, 辽宁 鞍山 114051
室温下采用射频磁控溅射氧化锌(ZnO)粉末靶、银(Ag)靶, 在玻璃衬底上制备ZnO/Ag/ZnO透明导电薄膜。首先, ZnO厚度为30 nm时, 改变Ag厚度制备3层透明导电薄膜, 研究Ag层厚度及膜层间配比对光电性能的影响; 其次, 按ZnO∶Ag厚度比为30∶11比例制备不同厚度的3层透明导电薄膜, 研究多层厚度对薄膜光电性能的影响。结果表明: Ag厚度为8 nm及11 nm的ZnO/Ag/ZnO表面相对平整, 结晶程度较好, 在可见光范围内最高透过率达到90%及86%, 并且方块电阻为6 Ω/□及3.20 Ω/□, 具有优良的光电性; 当按配比制备ZnO/Ag/ZnO 3层膜时, 增加ZnO厚度对Ag层的增透作用反而减弱, 同时增加Ag层厚度也会降低3层薄膜的整体光学性。
透明导电薄膜 射频磁控溅射 粉末靶 镀膜 transparent conductive films RF magnetron sputtering powder target coating