中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
提出了光学薄膜温度场设计的概念,研究分析了薄膜光学性质和热、物性质对其温度场的影响。给出了相变光盘薄膜和高功率激光反射膜的具体设计。还给出了相变膜的写入、擦除功率和激光反射膜的破坏阈值。
光学薄膜 热传导 温度场设计
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
对氧化物薄膜的双离子束溅射沉积作了系统地实验研究。考察了离子束溅射工艺参数对薄膜光学特性的影响，制备了折射率接近于块材料的TiO2和ZrO2薄膜，显著降低了TiO2、ZrO2和SiO2薄膜的光吸收损耗，TiO2和ZrO2薄膜的抗激光损伤阈值得到显著提高。用双离子束溅射沉积1.06 μm多层高反膜，得到了大于99.5%的高反射率，经高温退火处理的双离子束溅射沉积高反膜的抗激光损伤阈值同热蒸发沉积的高反膜相比有所提高。
离子束溅射 薄膜 光学特性 激光损伤
实验研究了在不同波长、不同脉宽激光作用下,光学薄膜破坏的重复率效应并结合理论分析和在破坏过程中的光热监测,探讨了光学薄膜累积破坏的机理。
激光损伤 光学薄膜 重复频率
本文应用高斯型离子束流强度分布计算了离子束溅射沉积光学薄膜的沉积速率分布,结果表明,沉积速率空间分布偏离余弦分布,峰值位置随溅射离子束入射角改变并受离子束高斯半径的影响。实验结果与之相符。
薄膜 离子束溅射沉积 沉积速率分布
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
用热传导方程计算了在脉宽10ns、波长1.06μm的激光辐射下,TiO_2单层膜的温度场分布.结果表明:膜层的热参数增大,其峰值温度明显降低,而基板热参数变化对膜层温度响应影响很小,温度场分布由电场分布决定,1/4波长薄膜的峰值温度低于半波长薄膜的峰值温度.
温度场分布 光学薄膜 热学参数
中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
用离子束溅射沉积的方法制备的TiO2、ZrO2薄膜的光吸收损耗明显降低,对其折射率、光吸收和抗激光损伤阈值等特性进行了分析.
离子束溅射沉积 薄膜 光学特性
