用一台氩离子激光器控制显微化学反应演示了单晶和多晶泓的高分辨蚀刻。气相的Cl2或HCl用于靠表面加热和分子光解引发的反应中。得到了小于5微米的刻纹和高于5微米/秒的蚀刻速率。这种方法似乎马上可以适用于解决集成电路制造中的种种问题。
利用235UF6裂变碎片激发已经演示了Αr-Χe和He-Xe的核泵浦的激光作用。 裂变碎片是在气态235UF6和UF6化学反应产物在激光管壁上形成的涂层之间的化合中吸收了热中子而产生的。Ar-（3%) Xe压力为600托时，Xe中出现了2.65微米的激光作用。在600托的Αr-(3%)Χe中，气态235UF6直至加到3托都不发生 严重的激光猝灭。当添加的235UF6为3托时，38%的能量沉积都来自UF6,其余部分来自管壁的铀涂层。激光阈值处的中子通量是4×1015中子/厘米2·秒。
演示了在无掩模过程中以微米尺度空间控制直接掺杂Cd浓度可变的InP。该 过程利用的是在激光加热表面上以连续紫外激光光沉积这种掺杂物。
在今后5~8年里，现有的激光技术是可以解决工业化学方面的几个问题的。激光不仅可以实时地探查一个化学体系，而且可以记录化合物的出现和消失，这些独特无比的能力将会使这些问题的解决成为现实。人们已经在研究中使用激光测量介质的温度和压力，还用来测量反应物、产物和中间产物的内能态。
无掩模电镀已经通过一种新技术途径实现了，这种新技术使用连续波或脉冲激光器，让激光聚焦在电镀槽中的某个电极上。在光功率密度约为104瓦/厘米2时，阴极上吸光区域里电镀增强速皮约达103倍。激光扫描沿扫描轨迹产生一个电镀图形。一种基于对流质量传递的定性理论被用来解释这些结果。
激光与光电子学进展
1980, 17(12): 40
建立真空紫外和X射线谱区的激光器是现代量子电子学最现实的任务之一。利用大功率同步加速器辐射有可能得到高能谱段的激光器。估算宽禁带晶体（如NaCl)泵浦的可能性，结果表明，如果利用新西伯利亚VEPP贮存环的同步辐射，就可以得到这种激光器。使用VEPP-3将会得到超过阈值两倍的泵浦密度。这种激光器的自由振荡功率密度约为103瓦/厘米3。拟议中的激活介质具有宽荧光线，这将使得建立真空紫外区的大功率超短脉冲和可调激光器成为可能。本文还讨论了同步加速器辐射泵浦的激光器可用的其它激活介质。
激光与光电子学进展
1979, 16(10): 15
