作者单位
摘要
中国科学院半导体研究所 纳米光电子实验室, 北京 100083
建立了SACM型In0.53Ga0.47As/In0.52Al0.48As雪崩光电二极管(APD)的分析模型, 通过数值研究和理论分析设计出高性能的In0.53Ga0.47As/In0.52Al0.48As APD。器件设计中, 一方面添加了In0.52Al0.48As势垒层来阻挡接触层的少数载流子的扩散, 进而减小暗电流的产生;另一方面, 雪崩倍增区采用双层掺杂结构设计, 优化了器件倍增区的电场梯度分布。最后, 利用ATLAS软件较系统地研究并分析了雪崩倍增层、电荷层以及吸收层的掺杂水平和厚度对器件电场分布、击穿电压、IV特性和直流增益的影响。优化后APD的单位增益可以达到0.9 A/W, 在工作电压(0.9 Vb)下增益为23.4, 工作暗电流也仅是纳安级别(@0.9 Vb)。由于In0.52Al0.48As材料的电子与空穴的碰撞离化率比InP材料的差异更大, 因此器件的噪声因子也较低。
雪崩光电二极管(APD) SACM结构 暗电流 增益 图像应用 avalanche photodiode (APD) SACM structure dark current gain imaging application 
红外与激光工程
2016, 45(5): 0520005

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!