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光谱学
氦、氖、氩气体压力对氖光谱和能级填充的影响
谭明亮 1叶安培 1朱正和 1苟青泉 1[ ... ]孙颖 2
作者单位
摘要
1 成都科技大学原子与分子物理研究所, 成都 610065
2 中国工程物理研究院核物理与化学研究所, 成都 610003
以238uP为激发源，测量了不同压力下Ne、He-Ne、He-Ne-Ar体系的氛光谱，并以此为基础计算了Ne的2p53p的10个2P能级的辐射率I、相对集居数N、填充率W，总结出相应的Ne压力、He压力和Ar压力对Ne的585.2 nm谱线强度和10个2P能级填充的影响规律。
238Pu激励 氖光谱 氖能级填充 
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光学学报
1995, 15(9): 1229
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