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Abstract
Laser Micro/Nano Fabrication Laboratory, School of Mechanical Engineering, Beijing Institute of Technology, Beijing 100081, China
We report a simple, cost-effective and repeatable method for fabricating a large area and uniform substrate for surface-enhanced Raman scattering (SERS). The silicon, micromachined by a femtosecond laser, is coated with gold film and then treated through the dewetting process. The morphology shows a higher electric field enhancement due to light trapping. The enhancement factor of the SERS substrate is 9.2×107 with a 5 nm-thick film coated. Moreover, it also exhibits a uniform signal through Raman mapping and chemical stability with the greatest intensity deviation of 6% after a month. The proposed technique provides an opportunity to equip microchips with the SERS capabilities of high sensitivity, chemical stability, and homogeneous signals.
240.6695 Surface-enhanced Raman scattering 140.7090 Ultrafast lasers Chinese Optics Letters
2015, 13(11): 111401
光纤通信技术和网络国家重点实验室 武汉电信器件有限公司，湖北 武汉430074
文章对一种主要应用于光纤有线电视(CATV)中的集成光波分复用的单PIN探测器进行了分析和实验，该器件用于数据的上传、下载以及CATV信号的接收。实验指标可以满足：响应度在1 550 nm波段＞0.9 A/W，插损＜0.8 dB，1 550 nm隔离度＞20 dB，回损＞45 dB，双通道二阶互调非线性指标(CSO) ＞70 dB，工作温度为-40～85℃。
波分复用 集成化 模拟PIN WDM integration analog PIN
武汉华工正源光子技术有限公司，湖北 武汉430223
文章提出了一种不用光隔离器即可提高器件抗反射性能的抗反射同轴激光器TO-CAN(晶体管外形封装), 该TO-CAN集成了半导体激光器的电/光信号转换功能和抗反射功能，采用现有的贴片工艺和粘胶工艺，通过在底座TO-Header(晶体管外形头)上面安装激光器芯片、偏振片和λ/4波片而制成，理论分析和实验结果都验证了该方案的有效性和实用性。
偏振 λ/4波片 抗反射 隔离度 polarization λ/4 wave plate anti-reflection isolation
文章对带有斜端面光纤结构的改进型同轴探测器的反射机理进行了简要计算，并在此基础上运用高斯光学理论对该结构的反射光路进行了理论分析。在排除物理接触面的反射因素后，对该结构样品进行了测试，测试结果和所作的理论分析结果基本一致。实验结果说明该理论分析可以应用于实践。
反射 斜端面光纤结构 光接收组件 reflection tilted fiber stub end face Receiver Optical Subassembly(ROSA)
1 四川大学,电子信息学院,成都,610064
2 武汉电信器件公司,武汉,430074
应用场耦合方法模拟计算了不同光纤斜端面角度下半导体激光器的耦合效率,并进行了实验测量.结果表明,不同的光纤斜端面角度下,对半导体激光器的耦合效率影响很大,根据不同的芯片参数合理选择不同的斜端面光纤可以得到尽可能高的耦合效率.
斜端面光纤 半导体激光器 耦合效率 端面反射
1 四川大学电子信息学院,成都,610064
2 西南技术物理研究所,成都,610041
应用有限元方法模拟计算了镀膜系统平行平面转盘在不同转速以及不同的镀膜时间下波分复用(DWDM)系统介质滤光片的成膜均匀性.结果表明,针对不同的膜料,合理选择转速和控制镀膜时间能够提高薄膜成膜的均匀性.
薄膜 均匀性 有限元 转速
