提出了一种激光诱导液相腐蚀新方法——次序选择腐蚀法。次序选择腐蚀是指在激光化学液相腐蚀中，腐蚀溶剂不是混合后同时作用于基片，而是按照溶剂的性能，分先后对基片进行腐蚀。实质上是采用微处理(表面处理)再进行混合液相激光辅助下的腐蚀。理论分析和实验结果都表明，与国内外研究普遍采用的混合溶剂腐蚀法相比，次序选择腐蚀可以有效地提高腐蚀表面的均匀性;因先采用H2O2对基片进行化学腐蚀处理，大大缩短了激光化学腐蚀的时间;利用溶剂分开，降低了激光化学腐蚀对混合溶剂精确配比的要求，使激光化学腐蚀控制和分析更加简单。这种方法可以克服常规方法的诸多弊端，提高腐蚀性能，在特殊结构光电器件和光电集成中具有广泛的应用前景。

提出了一种激光诱导液相腐蚀新方法--抗蚀膜掩蔽法.抗蚀膜掩蔽法是指在激光腐蚀中,用抗蚀膜来实现对激光腐蚀区域的控制.理论分析和实验结果都表明,抗蚀膜掩蔽法可以有效地控制激光化学腐蚀的图像形状;因不需要对激光光束进行聚焦,光传播垂直于基片表面,制作出的腐蚀孔侧壁可以具有很高的垂直度;利用激光光束中心区域能量分布近似均匀的特点,使小面积腐蚀区域的腐蚀速率近似相等,腐蚀面内各点没有明显的高度差.因为以上优点,抗蚀膜掩蔽法能克服现有激光腐蚀方法的诸多弊端,简化激光腐蚀工艺,在特殊结构光电器件和光电集成中具有广泛的应用前景.