为了提升Al/Zr多层膜的热稳定性，采用直流磁控溅射方法制备了18个带有不同厚度Si间隔层的Al(1 wt.%Si)/Zr多层膜，并将这些样品分别进行了不同温度(100~500 ℃）的真空退火，退火时间为1 h。利用X射线掠入射反射(GIXR)和X射线衍射(XRD)的方法来研究Si间隔层对Al/Zr多层膜热稳定性的作用。GIXR测量结果表明：随着Si间隔层厚度的增大，Al膜层的粗糙度减小，而Zr膜层的粗糙度增大；XRD测量结果表明：Al和Zr膜层粗糙度的变化是由于退火后膜层中晶粒尺寸不同造成的。相比于没有Si间隔层的Al/Zr多层膜，引入厚度为0.6 nm的Si间隔层可以有效提升Al/Zr多层膜的热稳定性。

在17~19 nm波段, 利用直流磁控溅射技术将Al(1%wtSi)/ Zr多层膜镀制在掺氟的二氧化硅基底上, 基于原子力显微镜对不同膜对数(N=10, 40, 60, 80)表面粗糙度的测量结果, 将多层膜的生长模型应用于实际结果中, 对表面均方根粗糙度随着膜对数的变化进行了深入的分析, 并对Stearns粗糙度动态生长理论的适用条件作了补充性讨论。