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物理光学
激光诱导直接化学光刻
李丁 顾原岗 沈光平 邱明新 
作者单位
摘要
上海激光技术研究所
本文利用Ar~+激光倍频257.3nm进行扫描蚀刻Si、GaAs和Zn片,获得的最小光刻线宽为1.2μm,给出蚀刻深度与光强/扫描速度的关系曲线等参量,首次利用光刻技术估计卤素自由基的扩散系数、自由路程以及激光聚焦光斑大小,以及观察到阈值现象。
刻光 激光诱导化学 气相光刻 光分解光刻 
PDF全文 Full Text
光学学报
1987, 7(1): 49
激光器件与激光物理
钨膜的激光化学沉积
曾永键 顾原岗 邱明新 
作者单位
摘要
上海市激光技术研究所
PDF全文 Full Text
中国激光
1985, 12(6): 374
激光器件与激光物理
氩激光腔外倍频
顾原岗 曾永健 邱明新 
作者单位
摘要
上海市激光技术研究所
PDF全文 Full Text
中国激光
1984, 11(10): 628
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