1 清华大学 工程力学系，北京 100084
2 北京理工大学 机电工程学院，北京 100081
在扫描探针纳米加工技术的基础上，提出了利用原子力显微镜(AFM)来制作高频光栅的新工艺。利用AFM硅制探针，在接触模式下对光盘(聚碳酸酯材料)进行刻划试验。对刻划光栅的工艺参数进行优化，得到了纳米量级光栅。并将刻划所得光栅应用于数字云纹法，与数字参考栅干涉形成微／纳米数字云纹。实验结果表明，该法所制得的光栅可以应用于实际变形的测量。
原子力显微镜 微纳米加工 光栅制作 数字云纹 atomic force microscope(AFM) nano-lithography grating fabrication digital moiré
