1 中国工程物理研究院流体物理研究所,四川,绵阳,621900
2 中国工程物理研究院工学院计算机系,四川,绵阳,621900
针对高能电子束撞击重金属靶产生轫致辐射光子,利用蒙特卡罗方法详细研究了电子束半径与发射度以及靶的厚度对X光源特性的影响.结果表明:电子束半径与发射度不仅是影响照射量的主要因素,也是造成照射量分布不均匀的主要原因;给定电子束,存在一个靶厚度使得靶前1m处的照射量最大.因此,在X射线成像系统的设计和模拟过程中,应综合考虑电子柬半径与发射度和靶厚的影响.
MC模拟 电子束参数 转换靶 照射量 Monte carlo simulation Parameters of the electron beam Converting target Exposure
