1 中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室, 山西 太原 030051
2 中北大学电子测试技术国家重点实验室, 山西 太原 030051
为了改善光学波导较大的侧壁粗糙度，探究分次氧化工艺相比于单次氧化工艺的优势,运用微机电系统(MEMS)工艺制备了绝缘体上硅环型谐振腔和跑道型谐振腔，并通过单次氧化工艺和二次氧化工艺对其进行优化处理。理论分析并仿真了粗糙度、散射损耗和光学谐振腔传输特性之间的关系。实验结果显示，相同的氧化深度下，相比单次氧化工艺，二次氧化工艺获得了较窄的半峰全宽(FWHM)、较高的品质因数(Q)和较低的传输损耗。研究结果为波导表面光滑研究提供了重要的参考依据，同时对于高Q 值、低损耗谐振腔的制备及其在滤波器、生物传感和光学陀螺等相关领域中的应用具有重要的研究意义。
集成光学 光学谐振腔 耦合实验 氧化 品质因数
中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室, 电子测试技术国家重点实验室, 山西 太原 030051
运用微机电系统(MEMS)工艺制备了不同耦合间距的微环谐振腔，针对耦合间距对耦合系数、谐振深度的影响，进行了理论分析与仿真，并对结构进行耦合实验测试。测试结果表明，随着微环耦合间距的增加，耦合系数减小，谐振深度变浅，这与理论仿真一致。实际计算了相应的耦合效率、3 dB带宽及品质因数，随着耦合间距增大，耦合效率降低，3 dB带宽也随之变窄，微环谐振腔的品质因数逐渐提高。研究结果为微环谐振腔的进一步优化设计及其在相关领域中的研究与应用提供了依据。
集成光学 微环谐振腔 耦合实验 耦合间距
