1 中国科学院微细加工光学技术国家重点实验室，成都60209；中国科学院光电技术研究所，成都61009；中国科学院大学，北京100049
2 中国科学院微细加工光学技术国家重点实验室，成都60209；中国科学院光电技术研究所，成都61009
为实现在表面等离子体光刻机中对掩模与基片间的间隙测量，提出一种基于白光干涉测量技术的掩模?基片间隙测量方法，并设计了以ZYNQ芯片为核心的信号处理系统。以ZYNQ芯片的片上ARM用作参数设定、驱动控制以及前端显示，以可编程逻辑资源用于实现光谱数据的小波处理和互相关解调。系统以分布并行结构运行，大大提高了测量速度，并实现了对掩模?基片间隙的实时测量。最后为了确定测量精度，搭建了激光干涉仪精度测试平台。测试实验表明，间隙测量的重复测量精度为4.4 nm，位移测量精度为6.7 nm，满足间隙测量性能稳定和精度高等要求。
间隙测量 白光干涉 ZYNQ芯片 互相关算法 gap measurement white light interference ZYNQ chip cross-correlation algorithm
