为实现在表面等离子体光刻机中对掩模与基片间的间隙测量，提出一种基于白光干涉测量技术的掩模?基片间隙测量方法，并设计了以ZYNQ芯片为核心的信号处理系统。以ZYNQ芯片的片上ARM用作参数设定、驱动控制以及前端显示，以可编程逻辑资源用于实现光谱数据的小波处理和互相关解调。系统以分布并行结构运行，大大提高了测量速度，并实现了对掩模?基片间隙的实时测量。最后为了确定测量精度，搭建了激光干涉仪精度测试平台。测试实验表明，间隙测量的重复测量精度为4.4 nm，位移测量精度为6.7 nm，满足间隙测量性能稳定和精度高等要求。

低频段厚度超薄的吸波片带宽很难展宽，为此设计了一种加载集总电阻的三方环嵌套吸波器，介质基板采用高介电常数的材料，从而实现在低频段的带宽展宽，并进行了理论分析与仿真。仿真结果表明，该吸波器吸波峰在1.33 GHz左右，在1.3~1.35 GHz有超过90%的吸收率，且极化不敏感，可实现宽入射角的吸波性能。最后，对介质的厚度、介电常数对吸波器性能的影响做了简要分析。

双面抛光运动过程复杂, 对光学材料的加工有重要的影响, 运动轨迹分布不但影响加工效率, 而且影响加工工件的表面质量。通过分析双面抛光加工的运动过程, 建立双面抛光中任意一点相对于上抛光盘的运动轨迹的数学模型, 改变数学模型中的轨迹运动参数, 观察不同参数值对抛光轨迹分布的影响, 优化分析得出抛光轨迹分布最佳的运动参数值。研究结果表明, 工件在行星轮中的位置远离行星轮的回转中心, 行星轮与整个抛光盘半径比为0.3, 抛光盘与内齿轮的转速比在3～8倍之间, 内外齿轮的转速比在1～4倍的范围内, 获得的抛光轨迹最优。

为探讨光动力疗法(PDT)对人工龋菌斑生物膜的的作用,选用变形链球菌在体外构建符合人体生理环境的人工龋模型,选择血卟啉单甲醚(HMME)为光敏剂,激光照射选用半导体激光器,波长为635 nm,输出功率为10 mW,能量密度为12.47 J/cm2。用50个釉质块形成人工龋模型,随机分成5组,每组10块,分别为:1) HMME组;2) 激光照射组;3) PDT防龋组;4) 0.05%(质量分数)洗必泰处理组为阳性对照;5) 0.9%(质量分数)生理盐水处理组为阴性对照。依照平板细菌计数法观察不同处理方法对人工龋菌斑生物膜变形链球菌活力的影响。结果表明,与阴性对照组相比,HMME组人工龋口腔生物膜中变形链球菌数量(CFU/mL)无显著性差异(P>0.05),杀菌率仅为0.05%;激光照射和0.05%洗必泰均能使人工龋口腔生物膜中变形链球菌数量显著减少(P<0.05),杀菌率分别为59.94%和58.52%;而PDT防龋处理可使人工龋口腔生物膜中变形链球菌数量更为显著减少(P<0.05),杀菌率高达99.36%。HMME-PDT可有效杀灭人工龋口腔生物膜中的变形链球菌,为预防龋病提供了一种有效的新途径。

介绍了通光口径为300mm×300mm的等离子体电极电光开关驱动电源系统原理.该系统能产生时序上严格关联的两路幅值3kV、脉宽为500ms预电离高压脉冲;两路电压幅值为7kV、电流峰值为2kA的阻尼大电流、低抖动主放电脉冲;一路幅值为12kV、脉宽500ns低抖动矩形高压开关脉冲.这五路高压脉冲通过3根同轴电缆加载到充有惰性气体的纵向普克尔盒两边的阴阳电极上,对激光形成等离子体电极电光开关.