张岩 1高菘 1薛耀辉 2张卓 2[ ... ]侯超奇 1,*
作者单位
摘要
1 中国科学院西安光学精密机械研究所 瞬态光学与光子技术国家重点实验室,西安 710119
2 中国兵器工业集团有限公司 西安现代控制技术研究所,西安 710119
3 江苏中天科技股份有限公司,江苏 南通 226000
采用万能拉力试验机测试了不同预制棒预处理工艺、拉丝速度及在线主动控温退火工艺下单模石英光纤的平均拉断力。采用反射式光学显微镜、扫描电子显微镜表征了不同条件下光纤预制棒及光纤表面微观形貌,分析研究了光纤拉断力的影响因素。结果表明:随着拉丝速度逐渐增加,光纤平均拉断力呈下降趋势;通过对预制棒进行火焰抛光与梯度降温处理,优化主动控温退火工艺同时降低拉丝速度,光纤平均拉断力由无任何处理的36.69 N增长到68.28 N,拉断力提高了86%。
光纤光学 石英光纤 火焰抛光 退火工艺 拉断力 光纤强度 Optic fiber Silica fiber Flame polishing Annealing process Breaking tension Fiber strength 
光子学报
2022, 51(6): 0606002
Author Affiliations
Abstract
Key Laboratory of Nondestructive Testing, Ministry of Education, Nanchang Hangkong University, Nanchang 330063, China
A Mach-Zehnder interferometer (MZI) for high temperature (1 000℃) sensing based on few mode fiber (FMF) was proposed and experimentally demonstrated. The sensor was fabricated by fusing a section of FMF between two single-mode fibers (SMFs). The structure was proven to be an excellent high temperature sensor with good stability, repeatability, and high temperature sensitivity (48.2 pm/℃) after annealing process at a high temperature lasting some hours, and a wide working temperature range (from room temperature to 1 000℃). In addition, the simple fabrication process and the low cost offered a great potential for sensing in high temperature environments.
Mach-Zehnder interferometer annealing process few mode fiber high temperature sensing 
Photonic Sensors
2021, 11(3): 341
作者单位
摘要
昆明物理研究所,云南昆明 650223
热处理技术在整个 HgCdTe材料器件工艺中有着重要地位。在一定的热力学条件下对 HgCdTe材料进行热处理,可通过原子的热运动,调整材料电学性能和掺杂原子的占位形态、降低材料缺陷密度,以达到改善 HgCdTe材料器件性能的目的。从热处理与电学性能、热处理与缺陷密度、掺杂材料中的热处理技术以及器件工艺中的热处理技术等几方面进行了总结论述。
热处理 位错密度 掺杂激活 电学性能 HgCdTe HgCdTe annealing process dislocation density doping activation electrical properties 
红外技术
2016, 38(3): 239
作者单位
摘要
中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800
采用电子束蒸发沉积技术制备了355nm Al2O3/MgF2高反射薄膜,并在真空中进行不同温度梯度的退火,用X射线衍射(XRD)观察了薄膜微结构的变化,用355nm Nd:YAG脉冲激光测试了薄膜的激光损伤阚值,用Lambda 900光谱仪测试了薄膜的透过和反射光谱.结果表明在工艺条件相同的条件下真空退火过程对薄膜的性能有很大的影响,退火温度梯度越小的样品,吸收越小,阈值越大,并且是非晶结构.选择合适的真空退火过程可以减少355nm Al2O3/MgF2高反射膜的膜层吸收,提高薄膜的激光损伤阈值.
退火 结构 激光损伤阈值 吸收 Annealing process Structure Laser-induced damage threshold(LIDT) Absorptance 
强激光与粒子束
2004, 16(11): 1389
作者单位
摘要
1 东北师范大学理论物理研究所, 长春 130024
2 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所激发态物理重点实验室, 长春 130021
利用一种共蒸发及后退火的方法制备出包埋在氧化镁薄膜基质中的氧化锌量子点。经过退火之后进行的X射线衍射(XRD)实验表明了氧化锌的形成。在室温条件下, 经过900 ℃和1000 ℃退火的样品的光致发光(PL)谱中在375 nm附近表现出强的紫外光发射。从77 Κ到室温的变温光致发光谱的结果表明限制在氧化镁基质中的氧化锌量子点具有比较大的激子束缚能。此外,还讨论了退火温度和发光性质的关系。
氧化锌量子 氧化镁薄膜 光致发光 后退火 
中国激光
2002, 29(s1): 506

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!