中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
采用红外石英作为基底材料，利用SiO2/ZrO2膜系制备2100 nm波段钬激光器0°高反膜。提出一套完整的优化工艺，解决了薄膜的材料（膜料和基底）本身的水吸收，克服了薄膜表面光洁底差、散射吸收损耗大、容易破裂等问题，镀制出的薄膜在激光使用波长透射率小于0.1%，粗糙度小于1 nm，并且具有长期稳定性好，可靠性高等特点。
薄膜 钬激光器 高反膜 优化 中国激光
2011, 38(11): 1107003
为了能同时满足半导体激光器和YAG激光器对薄膜的特殊要求，在分析高反射膜理论的基础上，选取TiO2和SiO2为高、低折射率材料镀制了周期性多层介质高反射膜。研究了材料的光学及机械特性，重点解决了薄膜的消偏振和抗激光损伤问题。实验采用电子束真空镀膜并加以考夫曼离子源辅助沉积，利用TFC软件进行膜系设计，通过调整镀膜工艺参数和监控方法，在10mm×1.8mm的K9基底上镀制了符合要求的高反射膜，结果表明，当激光以45°入射时，薄膜在900～1100nm的P光与s光的反射率均大于99.95％。所制备的高反射膜性能稳定，抗激光损伤阈值高，能同时满足两种激光器的使用要求。
光学薄膜 高反射膜 激光损伤 消偏振 optical thin-film high reflectance film laser-induced damage depolarization
