作者单位
摘要
西安应用光学研究所,陕西 西安 710065
针对二维陀螺平台方位瞄准线控制在过顶位置时因驱动轴和敏感轴存在非线性约束导致的不稳定问题,分析了不同类型扰动源对方位瞄准线稳定的影响及其随俯仰角变化的规律,提出了基于扰动源分类控制的过顶稳定方法。该方法采用反馈和前馈双通道复合控制结构,在过顶位置时基于控制结构自身消除陀螺测量噪声放大导致的内生力矩扰动,通过增加前馈通道的滤波环节,抑制横滚扰动高频分量引起的力矩扰动,解决了过顶位置时方位驱动轴震荡的问题,同时通过反馈通道和前馈通道分别实现对方位扰动和横滚扰动低频分量的有效隔离。仿真结果表明,该方法能够大幅衰减陀螺测量噪声和横滚扰动高频分量引起的方位电机力矩扰动幅值,增强系统稳定性。最后通过某二维陀螺平台进行了实验,过顶位置时瞄准线方位经受振动条件下的稳定精度由82.4 μrad 减小为44.6 μrad,经受摇摆条件下的隔离度由−14.54 dB提升至−27.85 dB。实验结果验证了该方法能够有效提升过顶位置方位瞄准线的扰动隔离性能。
二维陀螺平台 过顶稳定 稳定精度 隔离度 two-dimensional gyro platform passing zenith stabilization stabilization precision isolation ratio 
应用光学
2021, 42(6): 989
作者单位
摘要
中国工程物理研究院激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
多程放大系统隔离能力关系到激光器的安全稳定运行。由于系统中反射光学元件膜层引起的退偏会导致系统隔离能力大幅降低,因此无法满足设计要求。以神光III主机装置为例介绍了主放大系统隔离技术,并分析了光学膜层退偏机理,离线实验观测了单个反射元件的退偏现象。研究发现引起光学膜层退偏的主要原因是膜层厚度及折射率设计误差。根据实际光路中采用的角反射器元件反射率指标计算得到光学薄膜退偏将系统隔离能力限制在32,介绍了系统解决措施。
光学薄膜 退偏效应 多程放大系统 隔离比 
光学学报
2014, 34(s1): s131001
作者单位
摘要
中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
通过离线实验指出了神光Ⅲ主机装置联机调试阶段中限制系统隔离比提高的主要因素来自于转角体结构中反射膜引入的退偏效应。从膜系理论出发建立了神光Ⅲ主机装置中的转角体结构的反射系数的计算模型,进而通过计算指出了退偏效应的主要来源是反射膜层厚度的偏差,然后通过数值计算与离线实验结果的对比确定了转角体结构中各个反射镜的反射系数。由此得到了转角体结构的总反射系数及其造成的神光Ⅲ主机装置系统隔离比的提升上限和进一步提升系统隔离比的思路。
退偏效应 反射系数 隔离比 高功率固体激光器 depolarization effect reflectance coefficient isolation ratio high power solid-state laser 
强激光与粒子束
2013, 25(12): 3197

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