中国工程物理研究院激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
多程放大系统隔离能力关系到激光器的安全稳定运行。由于系统中反射光学元件膜层引起的退偏会导致系统隔离能力大幅降低,因此无法满足设计要求。以神光III主机装置为例介绍了主放大系统隔离技术,并分析了光学膜层退偏机理,离线实验观测了单个反射元件的退偏现象。研究发现引起光学膜层退偏的主要原因是膜层厚度及折射率设计误差。根据实际光路中采用的角反射器元件反射率指标计算得到光学薄膜退偏将系统隔离能力限制在32,介绍了系统解决措施。
光学薄膜 退偏效应 多程放大系统 隔离比 光学学报
2014, 34(s1): s131001
中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
通过离线实验指出了神光Ⅲ主机装置联机调试阶段中限制系统隔离比提高的主要因素来自于转角体结构中反射膜引入的退偏效应。从膜系理论出发建立了神光Ⅲ主机装置中的转角体结构的反射系数的计算模型,进而通过计算指出了退偏效应的主要来源是反射膜层厚度的偏差,然后通过数值计算与离线实验结果的对比确定了转角体结构中各个反射镜的反射系数。由此得到了转角体结构的总反射系数及其造成的神光Ⅲ主机装置系统隔离比的提升上限和进一步提升系统隔离比的思路。
退偏效应 反射系数 隔离比 高功率固体激光器 depolarization effect reflectance coefficient isolation ratio high power solid-state laser 强激光与粒子束
2013, 25(12): 3197