采用溶胶-凝胶法制备了掺杂摩尔分数为5%～20% 的Al掺杂ZnO(AZO)高电阻薄膜，采用正方形电阻法表征了薄膜的方块电阻，采用扫描电子显微镜(SEM)对薄膜形貌进行了表征，采用Nano Measurer 1.2软件测量了薄膜晶粒的平均粒径，采用分光光度计表征了薄膜的光谱透过率。当Al掺杂摩尔分数为5%～20%时，方块电阻在2～405 MΩ/□之间逐渐增大，晶粒尺寸在24.35～17.53 nm之间逐渐减小，可见光透过率可达80%左右。制备了不同Al掺杂摩尔分数的AZO高电阻层的模式控制型液晶透镜并研究了其光学干涉特性，掺杂摩尔分数在10%～15%之间，AZO薄膜可满足液晶透镜对薄膜透明度和方块电阻的要求。

像差校正模式项数是自适应光学系统模式控制算法中的一个重要参数，其大小对补偿效果影响明显。通过对系统响应函数矩阵的奇异值分解构建像差模式空间，以不同控制项数下残余像差的均方根估计为依据确定每次校正的模式项数，提出了一种模式项数动态优化的控制方法。以Hartmann-Shack波前传感器和薄膜变形镜为主要部件搭建自适应光学实验系统，通过拟合不同像差验证上述控制方法，实验结果表明，和固定项模式控制方法比较，动态优化方法校正的系统残余像差更低，可明显提高自适应光学系统的空间拟合性能。

采用模式控制对能动光学系统的有效运行是十分重要的。针对 1.2 m能动镜, 对常见的泽尼克模式、主镜的自由振荡模式和本征模式进行了分析, 其中本征模借鉴于薄膜反射镜的模式分析, 但尚未见到用于能动主镜的模式控制, 从能动镜对各模式的拟合精度以及选用的模式数量与能动镜系统的校正能力的关系考虑, 选择离焦、三阶彗差和 9阶本征模作为 1.2 m能动光学系统的校正模式, 其中离焦和三阶彗差由次镜的平移和倾斜进行校正, 9阶本征模由主镜背面的力驱动器阵列进行校正。